[發明專利]化學氣相沉積反應腔

在審

• 申請號: 202011165028.2
• 申請日: 2020-10-27
• 公開（公告）號: CN112176324A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 吳銘欽;劉峰
• 申請（專利權）人: 蘇州雨竹機電有限公司
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46;C23C16/458;C23C16/44
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 王富強

1.一種化學氣相沉積反應腔，其特征在于，包含：

一腔體；

一上加熱模塊，設置在該腔體內的上部；

一基板承載裝置，設置在該腔體內對應于該上加熱模塊下方的位置，用于承載至少一基板并包含至少一碟盤、一下大盤以及一上大盤，該碟盤具有一上方開放的基板槽以供該基板以反應面朝下的方式置入，該基板槽下方設有一反應口以供該基板的反應面裸露，該下大盤具有至少一個上方開放的碟盤槽以供該碟盤置入，該碟盤槽下方設有一底口以供該反應面裸露，該上大盤遮蓋于該下大盤的上方并將該碟盤槽上方封閉，該上大盤的半徑大于該下大盤；

一升降筒暨廢氣收集環，連接于該下大盤以支撐并帶動該基板承載裝置升降及旋轉，并收集反應后的廢氣；

一噴頭，設置在該腔體內以釋出反應氣體；以及

一止擋單元，設置在該腔體內壁，使得該上大盤的邊沿于該升降筒暨廢氣收集環下降至預設高度時被該止擋單元攔阻而分離于該下大盤，待該升降筒暨廢氣收集環下降至最低位置時，該碟盤槽的上方以及該基板槽的上方呈現裸露狀態；

該腔體的側壁設有至少一取放口，該升降筒暨廢氣收集環上升至最高位置時遮蔽該取放口，該升降筒暨廢氣收集環下降至最低位置時開放該取放口。

2.如權利要求1所述的化學氣相沉積反應腔，其特征在于，該碟盤槽設有一環槽溝，該碟盤設有一入于該環槽溝的對接部，該環槽溝內設有一環狀氣浮通道；該環狀氣浮通道以切線方向銜接一入氣引道，以引入氣浮氣體施力于該對接部，使該碟盤懸浮及旋轉；該環槽溝銜接于一第一泄出口，以供該氣浮氣體排出。

3.如權利要求2所述的化學氣相沉積反應腔，其特征在于，以該氣浮氣體的引入流量大小控制該碟盤的懸浮高度。

4.如權利要求2所述的化學氣相沉積反應腔，其特征在于，該基板上方與該上大盤的間保持一受熱間距，該受熱間距至少為該基板生成薄膜過程產生翹曲規模的20倍。

5.如權利要求2所述的化學氣相沉積反應腔，其特征在于，該上大盤設有一第二泄出口與該第一泄出口銜接。

6.如權利要求1所述的化學氣相沉積反應腔，其特征在于，該基板槽內壁邊沿設有若干承載指以承托該基板的邊沿，該承載指的頂面朝向該基板槽中心傾斜。

7.如權利要求1所述的化學氣相沉積反應腔，其特征在于，其進一步包含一下加熱模塊，該下加熱模塊設置在該腔體下方。

8.如權利要求1所述的化學氣相沉積反應腔，其特征在于，該升降筒暨廢氣收集環帶動該基板承載裝置旋轉。

9.如權利要求1所述的化學氣相沉積反應腔，其特征在于，該上大盤對應于該碟盤上方的位置設置一曲面傳導區。