[發(fā)明專(zhuān)利]一種應(yīng)用于集成電路行業(yè)的陶瓷層的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011160423.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112501540A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐俊陽(yáng);李加 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 沈陽(yáng)富創(chuàng)精密設(shè)備股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C4/134 | 分類(lèi)號(hào): | C23C4/134;C23C4/04;C23C4/02 |
| 代理公司: | 沈陽(yáng)優(yōu)普達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 孫奇 |
| 地址: | 110000 遼寧*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 應(yīng)用于 集成電路 行業(yè) 陶瓷 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種應(yīng)用于集成電路行業(yè)的陶瓷涂層的制備方法,主要包括以下步驟:(1)將試樣或零件不需要噴涂的部位進(jìn)行遮蔽;(2)對(duì)試樣或零件進(jìn)行噴涂前前處理;(3)選用顆粒直徑在25?45μm之間的氟氧化釔粉末;(4)用大氣等離子噴涂技術(shù)進(jìn)行噴涂;(5)去除遮蔽保護(hù),清洗零件。采用該方法獲得的氟氧化釔涂層的厚度在150?250μm之間,涂層的孔隙率低于2%,涂層更致密、更均勻、潔凈度更高,有效地提高了集成電路行業(yè)的零部件的使用壽命。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及大氣等離子噴涂技術(shù),具體說(shuō)是一種應(yīng)用于集成電路行業(yè)的陶瓷層的制備方法。
背景技術(shù)
目前,隨著集成電路行業(yè)的迅猛發(fā)展以及普遍應(yīng)用,對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備的研究已經(jīng)趨于14nm甚至更小,這樣一來(lái),對(duì)設(shè)備的零部件的要求也就越來(lái)越高,傳統(tǒng)的辦法是在鋁合金零件表面用陽(yáng)極氧化的方法制備一層陽(yáng)極膜用來(lái)耐腐蝕,后來(lái)用熱噴涂方式在零件表面制備氧化鋁涂層,近年來(lái),用熱噴涂方式在零件表面制備氧化釔涂層,這是因?yàn)檠趸惖哪透g性能高于氧化鋁。而隨著設(shè)備的不斷提升,氧化釔涂層的耐腐蝕性能也不能夠滿(mǎn)足要求,因此需要開(kāi)發(fā)一種更耐腐蝕的涂層。與此同時(shí),設(shè)備的不斷進(jìn)步,對(duì)零部件的潔凈度要求也高,因此,該涂層不僅需要更耐腐蝕,還需要具有更高的潔凈度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于用一種應(yīng)用于集成電路行業(yè)的陶瓷涂層的制備方法,應(yīng)用大氣等離子噴涂技術(shù)噴涂氟氧化釔涂層,能夠滿(mǎn)足先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備對(duì)零部件的耐腐蝕、高潔凈度的要求。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種應(yīng)用于集成電路行業(yè)的陶瓷涂層的制備方法,包括如下步驟:
步驟(1)噴涂前,對(duì)試樣或零件進(jìn)行遮蔽保護(hù),遮蔽保護(hù)的方法包括但不限于軟遮蔽和硬遮蔽;
步驟(2)對(duì)試樣或零件進(jìn)行噴涂前前處理,主要目的是獲得一定表面粗糙度,所采用的方法可以是噴砂也可以是激光紋理;
步驟(3)選擇顆粒直徑在25-45μm范圍的氟氧化釔粉末;
步驟(4)采用大氣等離子噴涂技術(shù)進(jìn)行噴涂;
步驟(5)對(duì)噴涂后的零件進(jìn)行去遮蔽,然后清洗。
優(yōu)選的,所述步驟(1)中,中,對(duì)試樣或零件進(jìn)行遮蔽保護(hù),遮蔽的方法主要是采用膠帶或者工裝進(jìn)行遮蔽。
優(yōu)選的,所述步驟(2)中,在噴涂前需要對(duì)試樣或零件進(jìn)行前處理,處理的方式可以是采用噴砂處理,也可以采用機(jī)加工紋理處理,還可以采用激光紋理的方式,其目的一是為了增加涂層的結(jié)合力,二是為了獲得目標(biāo)涂層的表面粗糙度。
優(yōu)選的,所述步驟(4)中,采用大氣等離子噴涂技術(shù),噴涂參數(shù)為,電流是200-220A;噴涂距離是150-175mm;所用氬氣流量是180-210lpm;所用氫氣流量是40-60lpm;制備涂層的厚度是150-250微米。應(yīng)用在集成電路行業(yè)中,具有高耐腐蝕性、高潔凈度的作用。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是:
1)本發(fā)明采用大氣等離子噴涂制備氟氧化釔涂層,其涂層的耐腐蝕性能更強(qiáng)。
2)本發(fā)明采用大氣等離子噴涂制備氟氧化釔涂層,其涂層的潔凈度更高,能夠滿(mǎn)足先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備對(duì)潔凈度的要求。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)施例一放大500倍的氟氧化釔涂層截面的SEM照片
圖2是本實(shí)施例一放大3000倍的氟氧化釔的涂層表面形貌SEM照片
圖3是本實(shí)施例二放大500的氟氧化釔涂層截面的SEM照片
圖4是本實(shí)施例二放大1000倍的氟氧化釔涂層的表面形貌SEM照片
具體實(shí)施方式
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