[發(fā)明專利]一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法、系統(tǒng)、裝置及存儲介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011149563.9 | 申請日: | 2020-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN112113477A | 公開(公告)日: | 2020-12-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃楊清;蔡永洪;馬婷婷;張力玲;唐小軍;王瀟瀟 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州計量檢測技術(shù)研究院 |
| 主分類號: | G01B3/04 | 分類號: | G01B3/04 |
| 代理公司: | 深圳市創(chuàng)富知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44367 | 代理人: | 葉燦才 |
| 地址: | 510663 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 直尺 校準(zhǔn) 測量方法 系統(tǒng) 裝置 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法,其特征在于,包括以下步驟:
將被測鋼直尺按預(yù)設(shè)規(guī)則放置在可調(diào)測量臺;
獲取刻度線圖像并進(jìn)行圖像處理,識別得到標(biāo)準(zhǔn)尺刻度和被測鋼直尺刻度;
根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)尺刻度和被測鋼直尺刻度得到校準(zhǔn)位置;
根據(jù)校準(zhǔn)位置讀取被測刻度線目標(biāo)位置的誤差,得到被測鋼直尺的誤差數(shù)據(jù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法,其特征在于,還包括:
替換被測鋼直尺并重復(fù)校準(zhǔn)步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法,其特征在于,所述將被測鋼直尺按預(yù)設(shè)規(guī)則放置在可調(diào)測量臺這一步驟,其具體包括:
將被測鋼直尺放置在可調(diào)測量臺上并進(jìn)行零位對準(zhǔn);
驅(qū)動可調(diào)測量臺使被測鋼直尺與固定標(biāo)準(zhǔn)尺的上平面位置持平。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法,其特征在于,所述獲取刻度線圖像并進(jìn)行圖像處理,識別得到標(biāo)準(zhǔn)尺刻度和被測鋼直尺刻度這一步驟,其具體包括:
基于攝像頭拍攝被測鋼直尺和標(biāo)準(zhǔn)尺的刻度線圖像,得到刻度線圖像;
對刻度線圖像進(jìn)行二值化和旋轉(zhuǎn)矯正,得到處理后圖像;
根據(jù)處理后圖像,分離得到標(biāo)準(zhǔn)尺刻度和被測鋼直尺刻度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法,其特征在于,所述對刻度線圖像進(jìn)行二值化和旋轉(zhuǎn)矯正,得到處理后圖像這一步驟,其具體包括:
對刻度線圖像進(jìn)行二值化處理,得到二值化后圖像;
對二值化后圖像經(jīng)過開運算去除噪聲,得到去噪圖像;
根據(jù)去噪圖像的刻度線形態(tài)對去噪圖像進(jìn)行旋轉(zhuǎn)矯正,得到處理后圖像。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法,其特征在于,所述根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)尺刻度和被測鋼直尺刻度得到校準(zhǔn)位置這一步驟,其具體包括:
將被測鋼直尺刻度與標(biāo)準(zhǔn)尺刻度重合展示,得到刻度線重合圖像;
根據(jù)刻度線重合圖像中標(biāo)準(zhǔn)尺刻度在被測尺刻度上的對應(yīng)位置,得到校準(zhǔn)位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法,其特征在于,所述誤差數(shù)據(jù)包括刻度線重合圖像和在預(yù)設(shè)長度標(biāo)準(zhǔn)尺與被測鋼直尺的差值。
8.一種鋼直尺校準(zhǔn)測量系統(tǒng),其特征在于,包括:
放置模塊,用于將被測鋼直尺按預(yù)設(shè)規(guī)則放置在可調(diào)測量臺;
圖像模塊,用于獲取刻度線圖像并進(jìn)行圖像處理,識別得到標(biāo)準(zhǔn)尺刻度和被測鋼直尺刻度;
校準(zhǔn)比對模塊,用于根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)尺刻度和被測鋼直尺刻度得到校準(zhǔn)位置;
誤差模塊,用于根據(jù)校準(zhǔn)位置讀取被測刻度線目標(biāo)位置的誤差,得到被測鋼直尺的誤差數(shù)據(jù)。
9.一種鋼直尺校準(zhǔn)測量裝置,其特征在于,包括:
至少一個處理器;
至少一個存儲器,用于存儲至少一個程序;
當(dāng)所述至少一個程序被所述至少一個處理器執(zhí)行,使得所述至少一個處理器實現(xiàn)如權(quán)利要求1-7任一項所述一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法。
10.一種存儲介質(zhì),其中存儲有處理器可執(zhí)行的指令,其特征在于:所述處理器可執(zhí)行的指令在由處理器執(zhí)行時用于實現(xiàn)如權(quán)利要求1-7任一項所述一種鋼直尺校準(zhǔn)測量方法。
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