[發明專利]照明光學系統、曝光裝置以及物品制造方法

在審

• 申請號: 202011148204.1
• 申請日: 2020-10-23
• 公開（公告）號: CN112698550A
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發明（設計）人: 水谷將樹;須田廣美
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 孫蕾

1.一種照明光學系統，對被照明面進行照明，其特征在于，包括：

第1棒狀積分器，具有第1入射面和第1射出面；

第2棒狀積分器，具有第2入射面和第2射出面，從所述第1射出面射出的光向所述第2入射面入射；

間隔件，被所述第1射出面和所述第2入射面夾持；以及

光學系統，配置于所述第2射出面與所述被照明面之間，降低從所述第2射出面射出的光的強度分布的不均勻性。

2.根據權利要求1所述的照明光學系統，其特征在于，

所述間隔件具有使從所述第1射出面射出的光的一部分衰減的衰減部，所述衰減部被構成為使具有旋轉對稱性的光強度分布形成于所述第2入射面。

3.根據權利要求2所述的照明光學系統，其特征在于，

所述間隔件被構成為使具有2重對稱性的光強度分布形成于所述第2入射面。

4.根據權利要求2所述的照明光學系統，其特征在于，

所述間隔件被構成為使具有4重對稱性的光強度分布形成于所述第2入射面。

5.根據權利要求4所述的照明光學系統，其特征在于，

所述第1棒狀積分器和所述第2棒狀積分器的截面形狀為四邊形，

所述衰減部與所述第1射出面和所述第2入射面的4角接觸。

6.根據權利要求1所述的照明光學系統，其特征在于，還包括：

支承構件，支承所述第1棒狀積分器和所述第2棒狀積分器。

7.根據權利要求1所述的照明光學系統，其特征在于，

所述光學系統包括變焦光學系統。

8.一種曝光裝置，其特征在于，包括：

權利要求1～7中任一項所述的照明光學系統；以及

投影光學系統，

所述曝光裝置被構成為將由所述照明光學系統照明的原版的圖案利用所述投影光學系統投影于基板。

9.一種物品制造方法，其特征在于，包括：

曝光工序，利用權利要求8所述的曝光裝置對涂敷于基板的感光材料進行曝光；以及

顯影工序，使所述感光材料顯影，

從經過了所述顯影工序的所述基板制造物品。