[發明專利]掩模組件的清潔裝置

在審

• 申請號: 202011145129.3
• 申請日: 2020-10-23
• 公開（公告）號: CN112974385A
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發明（設計）人: 金栽豊;姜爀
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/02;B08B5/02;F26B21/14;F26B21/00;C23C14/04;C23C16/04
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 王達佐;劉錚

本發明公開了掩模組件的清潔裝置。掩模組件的清潔裝置包括有機溶劑清潔部、第一超純水清潔部、電解質清潔部、第二超純水清潔部和等離子體供給部，其中，所述有機溶劑清潔部用有機溶劑對掩模組件的異物進行清潔，所述第一超純水清潔部用超純水對在所述有機溶劑清潔部中清潔的所述掩模組件進行清潔，所述電解質清潔部用電解質對在所述第一超純水清潔部中清潔的所述掩模組件進行清潔，所述第二超純水清潔部用超純水對在所述電解質清潔部中清潔的所述掩模組件進行清潔，并且所述等離子體供給部用等離子氣體對用超純水清潔的所述掩模組件進行干燥并且用等離子氣體去除所述掩模組件的異物。

技術領域

本發明的實施方式涉及裝置，并且更詳細地，涉及掩模組件的清潔裝置。

背景技術

基于移動性的電子設備被廣泛使用。作為移動電子設備，除了如移動電話的小型電子設備以外，近年來平板PC也被廣泛使用。

為了支持各種功能，如上所述的移動電子設備包括顯示裝置以向用戶提供諸如圖像或視頻的視覺信息。近來，隨著用于驅動顯示裝置的其它部件的小型化，顯示裝置在電子設備中所占的比例呈逐漸增加的趨勢，并且也已開發出能夠由平坦狀態彎曲成具有預定角度的結構。

在這種顯示裝置的制造中會形成各種層，并且掩模組件可用于形成上述各種層中的任一層。在這種情況下，掩模組件可使用多次，并且在使用中，制造工藝中所使用的物質可能附著到掩模組件的表面。在這種情況下，應在去除附著到掩模組件的物質之后再次使用，才能夠長時間使用掩模組件。

發明內容

解決的技術問題

在反復使用掩模組件的情況下，在工藝中使用的物質可能被吸附并降低使用掩模組件的工藝的準確性，并且縮短掩模組件的使用壽命，從而可能導致制造成本上升并且消耗的制造時間長。本發明的實施方式提供對掩模組件進行清潔以便能夠持續地使用掩模組件的掩模組件清潔裝置。

解決方法

本發明的一實施方式公開了掩模組件的清潔裝置，所述掩模組件的清潔裝置包括有機溶劑清潔部、第一超純水清潔部、電解質清潔部、第二超純水清潔部和等離子體供給部，其中，所述有機溶劑清潔部用有機溶劑對掩模組件的異物進行清潔，所述第一超純水清潔部用超純水對在所述有機溶劑清潔部中清潔的所述掩模組件進行清潔，所述電解質清潔部用電解質對在所述第一超純水清潔部中清潔的所述掩模組件進行清潔，所述第二超純水清潔部用超純水對在所述電解質清潔部中清潔的所述掩模組件進行清潔，并且所述等離子體供給部用等離子氣體對用超純水清潔的所述掩模組件進行干燥并且用等離子氣體去除所述掩模組件的異物。

在本實施方式中，所述等離子體供給部可包括容納部和頭部，其中，所述頭部布置在所述容納部內部并且朝著所述掩模組件側噴射所述等離子氣體。

在本實施方式中，所述等離子體供給部還可包括排氣部，其中，所述排氣部與所述容納部連接并且將所述容納部內部的氣體排出到外部。

在本實施方式中，所述頭部可設置有多個噴射孔，并且所述多個噴射孔中的至少一個可形成為相對于所述頭部的表面傾斜。

在本實施方式中，所述頭部可包括第一頭部和第二頭部，其中，所述第一頭部布置成面向所述掩模組件的中央部分，并且所述第二頭部布置成面向所述掩模組件的邊緣部分。

在本實施方式中，所述第一頭部的形狀可與所述第二頭部的形狀彼此不同。

在本實施方式中，從所述第一頭部噴射的等離子氣體的方向可與從所述第二頭部噴射的等離子氣體的方向彼此不同。

在本實施方式中，所述頭部可包括第一頭部和第二頭部，其中，所述第一頭部布置成面向所述掩模組件的一表面，并且所述第二頭部布置成面向所述掩模組件的、與所述掩模組件的一表面不同的另一表面。