[發明專利]掩模組件的清潔裝置

在審

• 申請號: 202011145129.3
• 申請日: 2020-10-23
• 公開（公告）號: CN112974385A
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發明（設計）人: 金栽豊;姜爀
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/02;B08B5/02;F26B21/14;F26B21/00;C23C14/04;C23C16/04
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 王達佐;劉錚

1.掩模組件的清潔裝置，包括：

有機溶劑清潔部，所述有機溶劑清潔部用有機溶劑對掩模組件的異物進行清潔；

第一超純水清潔部，所述第一超純水清潔部用超純水對在所述有機溶劑清潔部中清潔的所述掩模組件進行清潔；

電解質清潔部，所述電解質清潔部用電解質對在所述第一超純水清潔部中清潔的所述掩模組件進行清潔；

第二超純水清潔部，所述第二超純水清潔部用超純水對在所述電解質清潔部中清潔的所述掩模組件進行清潔；以及

等離子體供給部，所述等離子體供給部用等離子氣體對用所述超純水清潔的所述掩模組件進行干燥，并且用所述等離子氣體去除所述掩模組件的異物。

2.如權利要求1所述的掩模組件的清潔裝置，其中，所述等離子體供給部包括：

容納部；以及

頭部，所述頭部布置在所述容納部的內部，并且朝著所述掩模組件側噴射所述等離子氣體。

3.如權利要求2所述的掩模組件的清潔裝置，其中，所述等離子體供給部還包括：

排氣部，所述排氣部與所述容納部連接，并且將所述容納部的內部的氣體排出到外部。

4.如權利要求2所述的掩模組件的清潔裝置，其中，所述頭部設置有多個噴射孔，并且所述多個噴射孔中的至少一個形成為相對于所述頭部的表面傾斜。

5.如權利要求2所述的掩模組件的清潔裝置，其中，所述頭部包括：

第一頭部，所述第一頭部布置成面向所述掩模組件的中央部分；以及

第二頭部，所述第二頭部布置成面向所述掩模組件的邊緣部分。

6.如權利要求5所述的掩模組件的清潔裝置，其中，所述第一頭部的形狀與所述第二頭部的形狀彼此不同。

7.如權利要求5所述的掩模組件的清潔裝置，其中，從所述第一頭部噴射的所述等離子氣體的方向與從所述第二頭部噴射的所述等離子氣體的方向彼此不同。

8.如權利要求2所述的掩模組件的清潔裝置，其中，所述頭部包括：

第一頭部，所述第一頭部布置成面向所述掩模組件的一表面；以及

第二頭部，所述第二頭部布置成面向所述掩模組件的、與所述掩模組件的所述一表面不同的另一表面。

9.如權利要求8所述的掩模組件的清潔裝置，其中，從所述第二頭部的至少一部分噴射的所述等離子氣體的方向與從所述第二頭部的其它部分噴射的所述等離子氣體的方向不同。

10.如權利要求9所述的掩模組件的清潔裝置，其中，所述第一頭部相對于所述掩模組件的平坦的一表面垂直地朝向所述掩模組件噴射所述等離子氣體。