[發明專利]半導體制程廢處理液的排放暫存裝置

在審

• 申請號: 202011143556.8
• 申請日: 2020-10-23
• 公開（公告）號: CN114470920A
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 趙晉億;蔡文平
• 申請（專利權）人: 辛耘企業股份有限公司
• 主分類號: B01D29/11
• 分類號: B01D29/11;B01D29/60
• 代理公司: 北京泰吉知識產權代理有限公司 11355
• 代理人: 謝瓊慧;孫金瑞

一種半導體制程廢處理液的排放暫存裝置，包含儲液容器及過濾模塊。儲液容器具有底壁、相對于底壁的頂壁、連接底壁與頂壁的圍壁及封蓋。頂壁設有廢處理液進入口及雜質清理口。封蓋設于頂壁且可開地封閉雜質清理口。過濾模塊包括過濾槽及感測器。過濾槽位于儲液容器內并位于廢處理液進入口及雜質清理口下方且具有網狀的底槽壁及側槽壁，及靠近頂壁的宣泄口，底槽壁與側槽壁共同界定過濾空間且用以過濾廢處理液中的雜質，底槽壁與底壁相間隔。感測器對應過濾槽設置以偵測過濾槽內所累積的雜質是否需要清理。通過過濾模塊將廢處理液中的雜質過濾，而在清理過濾槽內的雜質時并不需要排空儲液容器內的廢處理液，因此制程機臺不需要停機，而不影響產能。

技術領域

本發明涉及一種液體儲存裝置，特別是涉及一種半導體制程廢處理液的排放暫存裝置。

背景技術

在半導體制程中需要在基板上進行微影、蝕刻等處理步驟，通常會使用酸性或堿性等處理液，而且有些制程需要使用高溫的處理液，而處理液在制程中與基板作用，會使基板上的雜質剝落，但由于處理液無法分解該雜質，因此，該雜質將會混摻于使用過的處理液中一起被排放。

目前在半導體廠中所使用的排放系統，會使制程中所排放的高溫的廢處理液先流入一暫存槽中，等待廢處理液降溫后再輸送至廠務端處理。由于廢處理液通常為強酸或強堿，所以暫存槽為封閉式容器以避免廢處理液影響環境安全。然而，廢處理液中混摻的雜質會沉積在暫存槽底部，每經過一段時間即需要排空暫存槽以清理沉積的雜質，而在清理雜質的期間，產生廢處理液的制程機臺必須停機，導致產能受影響。

發明內容

本發明的一目的在于提供一種可以解決前述問題的半導體制程廢處理液的排放暫存裝置。

本發明的半導體制程廢處理液的排放暫存裝置在一些實施態樣中，是包含儲液容器及過濾模塊。該儲液容器具有底壁、相對于該底壁的頂壁、連接該底壁與該頂壁的圍壁及封蓋，該頂壁設有廢處理液進入口及雜質清理口，該封蓋設于該頂壁且可開地封閉該雜質清理口。該過濾模塊設于該儲液容器，并包括過濾槽及感測器。該過濾槽位于該儲液容器內并位于該廢處理液進入口及該雜質清理口下方，且具有網狀的底槽壁、連接該底槽壁周側的網狀的側槽壁，及靠近該頂壁的宣泄口，該底槽壁與該側槽壁共同界定過濾空間且用以過濾廢處理液中的雜質。該底槽壁與該底壁相間隔。該感測器對應該過濾槽設置以偵測該過濾槽內所累積的雜質是否需要清理。

在一些實施態樣中，還包含連接該儲液容器的循環模塊，該循環模塊包括泵及循環管路，用以使經由該過濾槽過濾后儲存于該儲液容器內的廢處理液在該循環管路內流動。

在一些實施態樣中，該感測器包括彼此相對地設于該圍壁的第一光學組件及第二光學組件，且該過濾槽位于該第一光學組件與該第二光學組件之間，使得由該第一光學組件發射出的光線穿過該過濾槽后，由該第二光學組件接收。

在一些實施態樣中，該側槽壁的頂端抵于該頂壁，該宣泄口設于該側槽壁上。

本發明具有以下功效：通過該過濾模塊將廢處理液中的雜質過濾，而在清理該過濾槽內的雜質時并不需要排空該儲液容器內的廢處理液，因此制程機臺不需要停機，而不影響產能。

附圖說明

本發明的其他的特征及功效，將于參照附圖的實施方式中清楚地呈現，其中：

圖1是本發明半導體制程廢處理液的排放暫存裝置的實施例的示意圖。

具體實施方式

參閱圖1，本發明半導體制程廢處理液的排放暫存裝置100的實施例，包含一儲液容器1、一過濾模塊2及一循環模塊3。