[發(fā)明專利]半導(dǎo)體制程廢處理液的排放暫存裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011143556.8
• 申請(qǐng)日: 2020-10-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114470920A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-05-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙晉億;蔡文平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 辛耘企業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): B01D29/11
• 分類號(hào): B01D29/11;B01D29/60
• 代理公司: 北京泰吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11355
• 代理人: 謝瓊慧;孫金瑞

1.一種半導(dǎo)體制程廢處理液的排放暫存裝置，其特征在于：包含：

儲(chǔ)液容器，具有底壁、相對(duì)于該底壁的頂壁、連接該底壁與該頂壁的圍壁及封蓋，該頂壁設(shè)有廢處理液進(jìn)入口及雜質(zhì)清理口，該封蓋設(shè)于該頂壁且可開(kāi)地封閉該雜質(zhì)清理口；及

過(guò)濾模塊，設(shè)于該儲(chǔ)液容器，并包括過(guò)濾槽及感測(cè)器，該過(guò)濾槽位于該儲(chǔ)液容器內(nèi)并位于該廢處理液進(jìn)入口及該雜質(zhì)清理口下方，且具有網(wǎng)狀的底槽壁、連接該底槽壁周側(cè)的網(wǎng)狀的側(cè)槽壁，及靠近該頂壁的宣泄口，該底槽壁與該側(cè)槽壁共同界定過(guò)濾空間且用以過(guò)濾廢處理液中的雜質(zhì)，該底槽壁與該底壁相間隔，該感測(cè)器對(duì)應(yīng)該過(guò)濾槽設(shè)置以偵測(cè)該過(guò)濾槽內(nèi)所累積的雜質(zhì)是否需要清理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述半導(dǎo)體制程廢處理液的排放暫存裝置，其特征在于：還包含連接該儲(chǔ)液容器的循環(huán)模塊，該循環(huán)模塊包括泵及循環(huán)管路，用以使經(jīng)由該過(guò)濾槽過(guò)濾后儲(chǔ)存于該儲(chǔ)液容器內(nèi)的廢處理液在該循環(huán)管路內(nèi)流動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述半導(dǎo)體制程廢處理液的排放暫存裝置，其特征在于：該感測(cè)器包括彼此相對(duì)地設(shè)于該圍壁的第一光學(xué)組件及第二光學(xué)組件，且該過(guò)濾槽位于該第一光學(xué)組件與該第二光學(xué)組件之間，使得由該第一光學(xué)組件發(fā)射出的光線穿過(guò)該過(guò)濾槽后，由該第二光學(xué)組件接收。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述半導(dǎo)體制程廢處理液的排放暫存裝置，其特征在于：該側(cè)槽壁的頂端抵于該頂壁，該宣泄口設(shè)于該側(cè)槽壁上。