[發明專利]一種靶材表面的清洗方法

在審

• 申請號: 202011133191.0
• 申請日: 2020-10-21
• 公開（公告）號: CN112267099A
• 公開（公告）日: 2021-01-26
• 發明（設計）人: 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學澤;時曉旭
• 申請（專利權）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;B08B3/02;B08B3/12;F26B21/00
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 王巖

本發明提供了一種靶材表面的清洗方法，所述清洗方法包括以下步驟：將靶材表面進行流水清洗并擦拭，然后依次進行超聲振動清洗、噴射清洗和吹掃干燥，得到清洗完成的靶材。本發明所述方法采用多級清洗工藝，對加工完成后的靶材依次進行流水清洗、超聲振動清洗以及噴射清洗，使靶材組件的濺射面、噴砂熔射區、凹槽等各區域均能夠完成清洗，達到完全去污、去油、去雜質、去粉塵的效果；本發明采用吹掃干燥的方式，快速吹干，避免液體長時間殘留容易形成水印的問題；本發明清洗過程中未使用任何有機溶劑，清洗成本低，產生廢液量較少。

技術領域

本發明屬于靶材制備技術領域，涉及一種靶材表面的清洗方法。

背景技術

隨著半導體行業的快速發展，鍍膜材料作為半導體電子器件制造的重要材料，其需求量也日益增加。靶材作為一種重要的鍍膜材料，在集成電路、平面顯示、太陽能、光學器件等領域具有廣泛的應用，其主要制備方法為物理氣相沉積法(PVD)，主要包括濺射鍍膜、真空蒸鍍、等離子體鍍膜等，其中最常用的為濺射鍍膜法。

在濺射鍍膜過程中，靶材直接參與濺射，若靶材的表面附著有油污、灰塵、顆粒狀雜質等異物，則會產生電弧放電，導致靶材的一部分變為熔融態并產生向各個方向飛濺的濺沫，所述濺沫附著在基板上或附著在已經成膜的鍍膜上，會使鍍膜質量下降，從而造成產品合格率下降，并導致生產成本增加。因此，濺射鍍膜過程中的靶材的清潔度對于濺射鍍膜的質量、產品的合格率以及生產成本均有重要影響。在生產過程中為了保證靶材具有足夠的清潔度，需要對靶材進行充分的清潔。

由于在濺射鍍膜過程中靶材一般不是單獨使用，而是以靶材組件的形式，靶材組件通常由靶材和背板構成，因此可以在靶材組件組裝完成后，再進行清洗流程，保證靶材表面的潔凈度。CN 108816929A公開了一種鉭靶材生產過程中半成品鉭螺紋的清洗方法，包括以下步驟：將鉭螺紋超聲波處理3-10min后，表面涂抹清潔劑，再經過刷洗、吹干、真空干燥即可。該清洗過程是在靶材組件制作過程中進行的，其目的在于提高靶材與背板焊接的結合率，并未涉及靶材成品的清洗，對于靶材成品上噴砂后區域的清洗也未涉及。

CN 110670083A公開了一種靶材的清洗方法，包括如下步驟：靶材表面涂覆清潔劑，然后進行刷洗；超聲波清洗刷洗后的靶材；使用惰性氣體吹干超聲波清洗后靶材表面的水分，然后進行真空干燥處理，得到清洗完成的靶材。該清洗方法同樣是在靶材生產過程中進行的，對于靶材加工完成后如何進行清洗并沒有涉及，靶材加工完成后除了濺射表面，還包括噴砂熔射區域，該區域粗糙度較大，與光滑濺射面的清洗方式也會不同。

綜上所述，對于靶材組件成品的清洗方式的選擇，還需要根據靶材組件的實際結構，選擇合理的操作步驟，同時不影響靶材后續的使用。

發明內容

針對現有技術存在的問題，本發明的目的在于提供一種靶材表面的清洗方法，所述方法對加工完成后的靶材依次進行流水清洗、超聲振動清洗以及噴射清洗，能夠完成對靶材成品各表面的全面清洗，達到完全去污、去油、去雜質、去粉塵的效果，有助于后續濺射過程鍍膜質量的提高。

為達此目的，本發明采用以下技術方案：

本發明提供了一種靶材表面的清洗方法，所述清洗方法包括以下步驟：

將靶材表面進行流水清洗并擦拭，然后依次進行超聲振動清洗、噴射清洗和吹掃干燥，得到清洗完成的靶材。

本發明中，靶材加工完成后需要用于濺射鍍膜，然而濺射面經常會出現污跡，采用現有技術清洗后難以起到充分的清潔效果，而且靶材背板焊接后需要進行噴砂熔射，形成的噴砂熔射區域粗糙度較大，容易附著灰塵等雜質，普通工藝難以徹底清除；因此，本發明中采用多級清洗工藝，將流水清洗、超聲清洗和噴射清洗相結合，使靶材組件的濺射面、噴砂熔射區、凹槽等各區域均能夠完成清洗，達到完全去污、去油、去雜質、去粉塵的效果，最后再采用吹掃干燥的方式，快速吹干，避免液體長時間殘留容易形成水印的問題，實現靶材成品階段的表面清潔。