[發明專利]一種靶材表面的清洗方法在審
| 申請號: | 202011133191.0 | 申請日: | 2020-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN112267099A | 公開(公告)日: | 2021-01-26 |
| 發明(設計)人: | 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學澤;時曉旭 | 申請(專利權)人: | 寧波江豐電子材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;B08B3/02;B08B3/12;F26B21/00 |
| 代理公司: | 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659 | 代理人: | 王巖 |
| 地址: | 315400 浙江省寧波市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 表面 清洗 方法 | ||
1.一種靶材表面的清洗方法,其特征在于,所述清洗方法包括以下步驟:
將靶材表面進行流水清洗并擦拭,然后依次進行超聲振動清洗、噴射清洗和吹掃干燥,得到清洗完成的靶材。
2.根據權利要求1所述的清洗方法,其特征在于,所述靶材包括金屬靶材、合金靶材或陶瓷靶材中任意一種或至少兩種的組合;
優選地,所述靶材表面包括靶材濺射面和噴砂熔射區域。
3.根據權利要求1或2所述的清洗方法,其特征在于,所述流水清洗為采用超純水進行靶材表面的沖洗;
優選地,所述擦拭為采用清潔海綿對靶材的濺射面、噴砂熔射區域、密封圈槽和孔槽進行擦洗;
優選地,所述清潔海綿包括擦擦克林海綿或納米海綿。
4.根據權利要求1-3任一項所述的清洗方法,其特征在于,所述靶材進行流水清洗和擦拭時,靶材置于放置臺上;
優選地,所述放置臺上墊凈化布。
5.根據權利要求1-4任一項所述的清洗方法,其特征在于,所述超聲振動清洗采用具有拋動功能的超聲波設備,優選為具有拋動軸承支架的超聲波設備;
優選地,所述超聲振動清洗的介質為超純水。
6.根據權利要求1-5任一項所述的清洗方法,其特征在于,所述超聲振動清洗的功率為1500~2500W;
優選地,所述超聲振動清洗的溫度為15~25℃;
優選地,所述超聲振動清洗的時間為5~15min。
7.根據權利要求1-6任一項所述的清洗方法,其特征在于,所述噴射清洗為采用高壓水槍對噴砂熔射區域進行沖擊;
優選地,所述高壓水槍所用介質為高純水;
優選地,所述高壓水槍的噴射壓力為10~25MPa;
優選地,所述噴射清洗的時間為0.5~2min。
8.根據權利要求1-7任一項所述的清洗方法,其特征在于,所述吹掃干燥為采用壓縮氣體對靶材進行吹掃干燥;
優選地,所述壓縮氣體包括惰性氣體和/或氮氣;
優選地,所述壓縮氣體的壓力為0.1~0.3MPa;
優選地,所述吹掃干燥的時間為3~5min。
9.根據權利要求1-8任一項所述的清洗方法,其特征在于,所述靶材清洗完成后進行真空包裝;
優選地,所述真空包裝時抽真空的時間不少于10s。
10.根據權利要求1-9任一項所述的清洗方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
(1)將靶材表面進行流水清洗并擦拭,所述流水清洗為采用超純水進行靶材表面的沖洗,所述擦拭為采用清潔海綿對靶材的濺射面、噴砂熔射區域、密封圈槽和孔槽進行擦洗;
(2)將步驟(1)處理后的靶材采用具有拋動功能的超聲波設備進行超聲振動清洗,所用介質為超純水,所述超聲振動清洗的功率為1500~2500W,溫度為15~25℃,時間為5~15min;
(3)將步驟(2)處理后的靶材采用高壓水槍對噴砂熔射區域進行噴射清洗,所述高壓水槍所用介質為高純水,噴射清洗的壓力為10~25MPa,時間為0.5~2min;
(4)將步驟(3)處理后的靶材采用壓縮氣體進行吹掃干燥,所述壓縮氣體包括惰性氣體和/或氮氣,所述壓縮氣體的壓力為0.1~0.3MPa,吹掃干燥的時間為3~5min,得到清洗完成的靶材。
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