[發(fā)明專利]壓印模具、壓印模具的制作方法、納米壓印方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011132054.5
• 申請(qǐng)日: 2020-10-21
• 公開（公告）號(hào): CN112198759A
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳福成
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯集成電路制造（紹興）有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 郭鳳杰

1.一種壓印模具，其特征在于，包括：

模具主體，具有壓印圖形；

無機(jī)膜層，覆蓋所述模具主體具有所述壓印圖形的表面；

有機(jī)膜層，位于所述無機(jī)膜層背離所述模具主體的表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印模具，其特征在于，所述無機(jī)膜層為透明膜層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓印模具，其特征在于，所述無機(jī)膜層的材料包括金屬元素。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印模具，其特征在于，所述無機(jī)膜層包括金屬化物膜層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印模具，其特征在于，所述有機(jī)膜層包括自組裝材料膜層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印模具，其特征在于，所述無機(jī)膜層的厚度為所述有機(jī)膜層的厚度為

7.一種壓印模具的制作方法，其特征在于，包括：

提供模具主體，所述模具主體具有壓印圖形；

在所述模具主體表面形成無機(jī)膜層，所述無機(jī)膜層覆蓋所述模具主體具有所述壓印圖形的表面；

在所述無機(jī)膜層上形成有機(jī)膜層。

8.一種納米壓印方法，其特征在于，包括：

提供如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的壓印模具；

提供基材，并在基材的表面形成壓印材料層；

使用所述壓印模具對(duì)所述壓印材料層進(jìn)行壓印；

將所述有機(jī)膜層與所述無機(jī)膜層分離實(shí)現(xiàn)脫模，并形成圖形化壓印層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的納米壓印方法，其特征在于，所述將所述有機(jī)膜層與所述無機(jī)膜層分離實(shí)現(xiàn)脫模，并形成圖形化壓印層之后，還包括：

清洗脫模后表面形成有所述無機(jī)膜層的所述模具主體；

在清洗后的所述無機(jī)膜層表面再次形成有機(jī)膜層。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的納米壓印方法，其特征在于，使用所述壓印模具對(duì)所述壓印材料層進(jìn)行壓印后，所述壓印材料層內(nèi)形成有若干凹槽，所述凹槽的槽深小于所述壓印材料層的厚度，將所述有機(jī)膜層與所述無機(jī)膜層分離實(shí)現(xiàn)脫模，并形成圖形化壓印層，包括：

將所述有機(jī)膜層與所述無機(jī)膜層分離實(shí)現(xiàn)脫模,；

去除所述有機(jī)膜層以及所述壓印材料層的在所述凹槽底部殘留的部分，以形成圖形化壓印層。

11.一種硅通孔的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

采用權(quán)利要求8-10任一項(xiàng)所述的納米壓印方法在所述基材上形成所述圖形化壓印層，所述基材為硅片；

基于所述圖形化壓印層對(duì)所述硅片進(jìn)行刻蝕，以于所述硅片內(nèi)形成硅通孔。