[發明專利]標志結構

在審

• 申請號: 202011131894.X
• 申請日: 2020-10-21
• 公開（公告）號: CN113763841A
• 公開（公告）日: 2021-12-07
• 發明（設計）人: 車東垠;尹鎮永;李騏泓;金鉉慶
• 申請（專利權）人: 現代自動車株式會社;起亞自動車株式會社
• 主分類號: G09F13/16
• 分類號: G09F13/16
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;張微

1.一種標志結構，包括：

基層；

圖像層，設置在所述基層的外表面上或者與所述外表面間隔開；以及

透明層，沉積在所述基層上以覆蓋所述圖像層，所述透明層被配置成透射光并產生光的折射，并且使得由所述基層和所述圖像層反射的光消失，從而改善所述圖像層的視覺識別性。

2.根據權利要求1所述的標志結構，其中：

所述圖像層包括金屬膜，所述金屬膜的透光率低于所述透明層的透光率。

3.根據權利要求1所述的標志結構，其中：

所述圖像層包括沿所述圖像層的外周面的細微突起。

4.根據權利要求1所述的標志結構，其中：

所述圖像層被沉積成從所述基層的外表面向外突出，并且具有傾斜的周面，使得所述圖像層的寬度沿所述圖像層的厚度方向從內部向外部變窄。

5.根據權利要求4所述的標志結構，其中，所述透明層包括：

第一透射層，被沉積成填充在所述基層中、所述圖像層周圍的剩余區域，并具有耐熱材料；以及

第二透射層，層壓在所述圖像層和所述第一透射層的外表面上。

6.根據權利要求1所述的標志結構，其中：

所述透明層沉積在所述基層上并完全包圍所述圖像層。

7.根據權利要求1所述的標志結構，其中：

所述基層包括從所述外表面凹入的凹刻部，所述圖像層沉積在所述凹刻部上，并且所述透明層被沉積成覆蓋所述基層和所述圖像層。

8.根據權利要求7所述的標志結構，其中，所述透明層包括：

第三透射層，被沉積成填充所述凹刻部；

第四透射層，層壓在所述基層和所述第三透射層的外表面上，并具有耐熱材料；以及

第五透射層，層壓在所述第四透射層的外表面上。

9.根據權利要求7所述的標志結構，其中：

所述凹刻部被形成為具有傾斜的周面，使得所述凹刻部的寬度沿所述圖像層的厚度方向從所述凹刻部的內部向外部變大。

10.根據權利要求1所述的標志結構，其中：

所述圖像層在外表面上具有精細圖案。

11.根據權利要求1所述的標志結構，其中：

所述圖像層與所述基層的外表面相接觸。