[發明專利]一種光致發光增強型量子點膜在審
| 申請號： | 202011130736.2 | 申請日： | 2020-10-21 |
| 公開（公告）號： | CN112322279A | 公開（公告）日： | 2021-02-05 |
| 發明（設計）人： | 羅培棟;蔡倩;王立超;魏俊峰 | 申請（專利權）人： | 寧波東旭成新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C09K11/02 | 分類號： | C09K11/02 |
| 代理公司： | 慈溪方升專利代理事務所(普通合伙) 33292 | 代理人： | 嚴曉 |
| 地址： | 315321 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光致發光 增強 量子 | ||
【權利要求書】：
1.一種光致發光增強型量子點膜，包括金屬氧化物阻隔膜、涂布于所述金屬氧化物阻隔膜上的量子點層、涂布于所述量子點層上的水氧阻隔膜，其特征在于：所述的金屬氧化物阻隔膜浸泡到改性溶劑進行去極化，所述的改性溶劑種類為含有鹵素基團的聚合物，浸泡時間為1-5min，浸泡后進行退火處理，然后再在該金屬氧化膜阻隔膜上涂布量子點層。
2.如權利要求1所述的光致發光增強型量子點膜，其特征在于：金屬氧化物阻隔膜浸泡后的退火溫度為80-150℃，退火時間為5-18min。
3.如權利要求1或2所述的光致發光增強型量子點膜，其特征在于：所述金屬氧化物阻隔厚度范圍為5nm-100μm。
4.如權利要求1或2所述的光致發光增強型量子點膜，其特征在于：量子點層的厚度范圍10μm-100μm。
5.如權利要求1或2所述的光致發光增強型量子點膜，其特征在于：金屬氧化物為ZnO,或TiO2,或Al2O3,或Fe3O4,或ZrO2。
6.如權利要求1或2所述的光致發光增強型量子點膜，其特征在于：金屬氧化物為ZnO,或TiO2,或Al2O3,或Fe3O4,或ZrO2。
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