[發明專利]一種光致增強型量子點膜的制作方法

在審

• 申請號: 202011130712.7
• 申請日: 2020-10-21
• 公開（公告）號: CN112226228A
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 羅培棟;繆燃;王立超
• 申請（專利權）人: 寧波東旭成新材料科技有限公司
• 主分類號: C09K11/02
• 分類號: C09K11/02;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 慈溪方升專利代理事務所(普通合伙) 33292
• 代理人: 嚴曉

一種光致增強型量子點膜的制作方法，包括如此下步驟：S1:提供量子點基膜，該量子點基膜為含有量子點的丙烯酸樹脂膜；S2:在所述量子點基膜上涂敷微米級二氧化硅粒子層；S3:在所述量子點基膜上涂布丙烯酸酯膠水；S4：對所述量子點基膜進行電子束處理?；け砻娣稚⒌亩趸栉⑶颍梢杂行У陌l生全內反射，從而提高量子點基膜光致發光效率。同時該量子點膜具有優異的隔絕水氧和耐磨的性能。

技術領域

本發明涉及一種光致量子點膜的制作方法。

背景技術

具有量子限域特性的半導體納米晶，又稱量子點，由于其量子尺寸效應而具有獨特的光學和電學性能，如連續可調的發射波長、較寬的激發光譜、較窄的發射光譜、高熒光量子產率和光化學穩定性以及抗熒光漂白，使其廣泛應用于發光二極管（LED）、生物檢測、激光器和太陽能電池敏化劑等方面，且在近年來取得了重大研究進展。

量子點顯示器是使用量子點膜作為面板架構的一部分來產生單色光以提供可調原色并提高屏幕效率和性能的裝置。可以通過兩種基本方式實現：光致發光和電致發光。

目前采用量子點膜技術的光致發光技術是目前量子點顯示中較為成熟可靠的技術。

但是如何提高光致發光技術中量子點膜的光致發光效率仍是熱點研究問題。

除此之外，量子點材料非常容易受到外界環境中氧氣、水汽以及其他因素的影響導致其穩定性較差，從而無法滿足顯示和照明領域對量子點膜穩定性的要求。

因此，目前急需一種在能提高量子點膜光致發光效率的基礎上，又具有優異隔絕水氧功能的量子點膜。

發明內容

為了克服現有光致發光量子點膜光致發光效率較低、隔絕功能較差的不足，本發明提供一種光致增強型量子點膜的制作方法，所制備出的量子點膜光致發光效率高 、隔絕功能好。

本發明解決其技術問題的技術方案是：一種光致增強型量子點膜的制作方法，該制作方法包括如此下步驟：

S1:提供量子點基膜，該量子點基膜為含有量子點的丙烯酸樹脂膜；

S2:在所述量子點基膜上涂敷微米級二氧化硅粒子層；

S3:在所述量子點基膜上涂布丙烯酸酯膠水；

S4：對所述量子點基膜進行電子束處理。

優選的，步驟S4中電子束處理的時間為0.5~5秒。

優選的，所述二氧化硅粒子的直徑為0.1~2μm。

本發明的有益效果在于：1.量子點基膜表面的二氧化硅微球，使光線可以有效的發生全內反射，從而提高量子點膜的光致發光效率。同時二氧化硅的表面覆蓋也使得量子點膜表面的耐磨性能有了顯著提高。2.通過電子束對量子點膜進行處理，能夠瞬間破壞量子點基膜表面，使得表面中的雙鍵碳鏈斷開，斷開的雙鍵碳鏈又重新聚合組合成致密的交聯組織，該交聯組織與二氧化硅微球在量子點基膜表面形成阻隔層。此番處理不僅能夠很好的增加二氧化硅微球的粘附性，提高其穩定性，還能很好的阻隔水汽和氧氣，并且該阻隔層還能夠對該量子點基膜提供很好的抗老化性能和力學特性。

具體實施方式

下面結合具體實施方式對本發明作進一步詳細說明。

一種光致增強型量子點膜的制作方法，包括如此下步驟：

S1:提供量子點基膜，該量子點基膜為含有量子點的丙烯酸樹脂膜。

S2:在所述量子點基膜上涂敷微米級二氧化硅粒子層，推薦的二氧化硅粒子的直徑為0.1~2μm。

S3:在所述量子點基膜上涂布丙烯酸酯膠水。