[發明專利]一種光致增強型量子點膜的制作方法在審
| 申請號： | 202011130712.7 | 申請日： | 2020-10-21 |
| 公開（公告）號： | CN112226228A | 公開（公告）日： | 2021-01-15 |
| 發明（設計）人： | 羅培棟;繆燃;王立超 | 申請（專利權）人： | 寧波東旭成新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C09K11/02 | 分類號： | C09K11/02;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 慈溪方升專利代理事務所(普通合伙) 33292 | 代理人： | 嚴曉 |
| 地址： | 315321 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 增強 量子 制作方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光致增強型量子點膜的制作方法，其特征在于該制作方法包括如此下步驟：
S1:提供量子點基膜，該量子點基膜為含有量子點的丙烯酸樹脂膜；
S2:在所述量子點基膜上涂敷微米級二氧化硅粒子層；
S3:在所述量子點基膜上涂布丙烯酸酯膠水；
S4：對所述量子點基膜進行電子束處理。
2.如權利要求1所述的光致增強型量子點膜的制作方法，其特征在于：步驟S4中電子束處理的時間為0.5~5秒。
3.如權利要求1或2所述的光致增強型量子點膜的制作方法，其特征在于：所述二氧化硅粒子的直徑為0.1~2μm。
4.如權利要求1或2所述的光致增強型量子點膜的制作方法，其特征在于：所述二氧化硅粒子的直徑為0.1~2μm。
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