[發明專利]一種氯硅烷副產鹽酸的自動化生產控制方法

有效

• 申請號: 202011129263.4
• 申請日: 2020-10-21
• 公開（公告）號: CN112225222B
• 公開（公告）日: 2023-03-17
• 發明（設計）人: 陶再山;李春華
• 申請（專利權）人: 南京曙光精細化工有限公司
• 主分類號: C01B33/107
• 分類號: C01B33/107;C01B7/01;C07F7/18
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 沈廉

1.一種氯硅烷副產鹽酸的自動化生產控制方法，其特征在于：包括以下步驟：

S1、將氯硅烷與含活潑氫化合物進行反應，通過氯化氫水溶液吸收系統將產生的氯化氫通過水溶液吸收制成副產鹽酸，所述氯化氫水溶液吸收系統包括凈化器、氣體緩沖罐、石墨降膜吸收器、副產鹽酸貯槽、壓力表、液位計和溫度計；所述氯硅烷為3-氯丙基三氯硅烷；所述含活潑氫化合物為無水乙醇；所述氯硅烷與含活潑氫化合物進行反應為連續酯化反應；所述水溶液為稀鹽酸；所述壓力表安裝在氣體進入列管式石墨降膜吸收器的管道上，為在線壓力表；所述溫度計安裝在副產鹽酸貯槽上，為在線溫度計；所述液位計安裝在副產鹽酸貯槽上，為在線液位計；

S2、記錄進入石墨降膜吸收器的氣體壓力值、進入石墨降膜吸收器的氣體壓力變化值、副產鹽酸貯槽液位值、副產鹽酸貯槽液位變化值、副產鹽酸貯槽中副產鹽酸的溫度值、氯硅烷的消耗值、含活潑氫化合物的消耗值；所述氯硅烷的消耗值、含活潑氫化合物的消耗值，以發生連續酯化的反應時間計算；所述石墨降膜吸收器為列管式石墨降膜吸收器；

S3、進入石墨降膜吸收器的氣體壓力值達到了既定的數值、副產鹽酸貯槽的液位穩定在一定數值、氯硅烷的消耗值或含活潑氫化合物的消耗值，多種數值作為判斷副產鹽酸的總酸度達到了標準值的判定因素；所述副產鹽酸貯槽中副產鹽酸的溫度值≤75℃時，作為判斷副產鹽酸的總酸度達到了標準值的一個輔助判定因素。