[發(fā)明專利]用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品及其制作方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011127123.3
• 申請(qǐng)日: 2020-10-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114441561A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-05-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳健群;彭裕庭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 陳健群
• 主分類號(hào): G01N23/04
• 分類號(hào): G01N23/04;G01N23/2202;G01N23/2204;G01N23/2251
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發(fā)明提供一種用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品及其制作方法，該測(cè)試樣品包含一承載基板、一待測(cè)物，及一保護(hù)層。該待測(cè)物設(shè)置于該承載基板上，該保護(hù)層由非晶形的氧化鋁構(gòu)成，披覆于該待測(cè)物上且厚度不大于5nm。本發(fā)明利用該保護(hù)層披覆于該待測(cè)物上，避免該待測(cè)物在電子顯微鏡的檢測(cè)中因受到電子束的照射而毀損，亦減少積碳效應(yīng)的發(fā)生。且該電子束的電子在非晶形的保護(hù)層中行進(jìn)時(shí)，不會(huì)產(chǎn)生晶格繞射而不會(huì)對(duì)該待測(cè)物的分析及成像造成影響。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種測(cè)試樣品及其制作方法，特別涉及一種適用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品及其制作方法。

背景技術(shù)

在學(xué)術(shù)領(lǐng)域或業(yè)界中，經(jīng)常利用電子顯微鏡(例如SEM、TEM或STEM等)進(jìn)行納米尺度或微米尺度的樣品檢測(cè)、材料分析或三維影像的取得。前述方法大致上是經(jīng)由施加電子束于待測(cè)樣品，并利用電子撞擊該待測(cè)樣品表面后產(chǎn)生的電子散射，以及基于電子的穿隧效應(yīng)而測(cè)得該待測(cè)樣品于不同角度的晶體結(jié)構(gòu)及表面形貌，并將不同角度所測(cè)得的分析數(shù)據(jù)加以整合而取得該待測(cè)樣品的三維影像。

然而，利用電子顯微鏡，如穿透式電子顯微鏡(TEM)拍攝取得該待測(cè)樣品的三維影像時(shí)，需要對(duì)該待測(cè)樣品進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間的拍攝，但是檢測(cè)/拍攝的時(shí)間越長(zhǎng)，該待測(cè)樣品越容易因長(zhǎng)時(shí)間的曝露在電子束的照射下而造成損毀，或是于該待測(cè)樣品的表面或周緣產(chǎn)生積碳，造成檢測(cè)得到的影像品質(zhì)變差。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品，該測(cè)試樣品能避免受電子束照射而損毀。

本發(fā)明用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品，包含：待測(cè)物，及保護(hù)層。

該保護(hù)層由非晶形的氧化鋁構(gòu)成，并披覆于該待測(cè)物上，且該保護(hù)層的厚度不大于5nm。

較佳地，本發(fā)明所述用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品，還包含承載基板，該待測(cè)物設(shè)置于該承載基板一表面，且該保護(hù)層還延伸覆蓋該承載基板的表面。

較佳地，本發(fā)明所述用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品，其中，該電子顯微鏡可產(chǎn)生電子束并以特定的入射角度施加于該測(cè)試樣品，該保護(hù)層的厚度為控制在令該電子束在該保護(hù)層中的行進(jìn)距離不大于10nm。

又，本發(fā)明的另一目的在于提供一種用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品的制作方法。

本發(fā)明的用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品的制作方法，包含：于設(shè)置于一承載基板上的待測(cè)物的表面形成由非晶形的氧化鋁構(gòu)成的保護(hù)層，且該保護(hù)層的厚度不大于5nm。

較佳地，本發(fā)明所述用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品的制作方法，其中，該保護(hù)層是通過(guò)原子層沉積的方式形成。

較佳地，本發(fā)明所述用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品的制作方法，其中，該待測(cè)樣品的制備是先利用氬等離子對(duì)該待測(cè)物進(jìn)行表面清潔，再形成該保護(hù)層。

較佳地，本發(fā)明所述用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品的制作方法，其中，該電子顯微鏡可產(chǎn)生電子束并以特定的入射角度施加于該測(cè)試樣品，該保護(hù)層的厚度為控制在令該電子束在該保護(hù)層中的行進(jìn)距離不大于10nm。

本發(fā)明的有益的效果在于：利用該保護(hù)層披覆于該待測(cè)物上以避免該待測(cè)物在通過(guò)電子顯微鏡進(jìn)行檢測(cè)或三維影像成像的過(guò)程中，因受到電子束的照射而產(chǎn)生損毀，同時(shí)可降低該測(cè)試樣品于電子束照射區(qū)域的周?chē)a(chǎn)生積碳的情形發(fā)生。此外，該保護(hù)層由非晶形的氧化鋁構(gòu)成，且其厚度不大于5nm，因此不會(huì)對(duì)該待測(cè)物的檢測(cè)分析產(chǎn)生干擾。

附圖說(shuō)明

圖1是一側(cè)視示意圖，說(shuō)明本發(fā)明用于電子顯微鏡的測(cè)試樣品的實(shí)施例；

圖2是一示意圖，說(shuō)明該實(shí)施例的測(cè)試樣品設(shè)置于TEM專用的一載臺(tái)上，并施加電子束的情形；

圖3是一沿圖2的III-III線的剖視示意圖，說(shuō)明轉(zhuǎn)動(dòng)該載臺(tái)后，并施加電子束于該實(shí)施例的測(cè)試樣品上的情形；