[發明專利]非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜及其制備方法

有效

• 申請號: 202011125742.9
• 申請日: 2020-10-20
• 公開（公告）號: CN112363261B
• 公開（公告）日: 2023-05-12
• 發明（設計）人: 趙大鵬;汪家春;程立;陳宗勝;李志剛;呂相銀;陳蕾蕾;時家明
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科技大學
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;G02B1/115;C23C14/30;C23C14/06
• 代理公司: 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385
• 代理人: 姚麗娜

本發明涉及一種非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜及其制備方法，該薄膜為多層膜結構，所述多層膜結構包括基底，以及在所述的基底上由內至外依次交替疊加的氟化鈣層和碲層；所述氟化鈣層的折射率為1.06?1.46，碲層的折射率為2.3?6.2；本發明的薄膜采用非金屬材料實現了中遠紅外波段(3?5μm和8?14μm)和激光波長(1.064μm和10.6μm)的兼容隱身，同時在非探測波段(5?8μm)具有較強散熱能力，因其不含金屬材料，所以對雷達波衰減很弱，易于實現同雷達吸波材料的兼容隱身，若將其應用于軍事裝備上，對于保護我軍重要軍事目標，提高武器裝備的生存概率具有重要的意義。

技術領域

本發明涉及軍事隱身技術領域，尤其涉及一種非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜及其制備方法。

背景技術

現代戰爭中，多波段光電偵察與精確制導武器的廣泛應用，對軍事目標的生存帶來巨大的威脅；隱身作為一種重要的對抗措施，目的是要降低目標和背景的輻射對比度或者減弱回波信號；由此產生了紅外隱身、激光隱身、雷達隱身等軍事需求。

為了能實現良好的多波段隱身效果，需要隱身材料在中遠紅外探測波段(3-5μm和8-14μm)具有低發射率(高反射率)，在激光測距或激光目標指示器的工作波長上(1.064μm和10.6μm)具有低反射率，對于不透明材料而言，低發射率將導致高反射率，不利于激光隱身；而低反射率又會引起高發射率，不利于紅外隱身，這成為多波段兼容隱身的一個難點問題。

由于目標溫度通常比背景高，用低發射率材料進行紅外隱身就能抑制目標的紅外輻射，和背景融為一體。但是發射率低意味著向外發出的輻射弱，會影響目標自身的散熱，嚴重的可能影響目標的正常工作，所以實現良好隱身還要解決隱身和散熱的問題。

用含金屬的材料制作成涂料或者薄膜也能實現紅外隱身，但是這類涂料或者薄膜因為含有金屬材料，對雷達波有較強的反射，這和雷達隱身所期望的低反射相矛盾。

發明內容

本發明的目的在于提供一種非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜及其制備方法。

為實現上述目的，本發明采用了以下技術方案：

一種非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜，該薄膜為多層膜結構，所述多層膜結構包括基底，以及在所述的基底上由內至外依次交替疊加的氟化鈣層和碲層；所述氟化鈣層的折射率為1.06-1.46，碲層的折射率為2.3-6.2。

優選的，所述基底為PI、PET、TPU、PVC、BOPP中的一種。

優選的，所述基底上共疊加有13層膜層，且最內層和最外層均為氟化鈣層；所述的13層膜層由內至外的厚度依次為：910±20nm、700±20nm、210±10nm、290±10nm、60±10nm、1030±30nm、570±20nm、50±10nm、1330±30nm、150±10nm、430±20nm、120±10nm、980±10nm。

本發明還提供了上述非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜的制備方法，具體為采用物理氣相沉積法于基底上依次交替沉積氟化鈣層和碲層。

優選的，所述物理氣相沉積法為電子束蒸發鍍膜、熱蒸發鍍膜、磁控濺射鍍膜中的一種

本發明的有益效果在于：

本發明的薄膜采用非金屬材料實現了中遠紅外波段(3-5μm和8-14μm)和激光波長(1.064μm和10.6μm)的兼容隱身，同時在非探測波段(5-8μm)具有較強散熱能力，因其不含金屬材料，所以對雷達波衰減很弱，易于實現同雷達吸波材料的兼容隱身，若將其應用于軍事裝備上，對于保護我軍重要軍事目標，提高武器裝備的生存概率具有重要的意義。

同時，本發明的制作原材料除基底外只需兩種材料，膜系結構簡單，重量輕、厚度薄，加工制作的工藝成熟，易于規模化生產和應用.

附圖說明