[發明專利]非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜及其制備方法

有效

• 申請號: 202011125742.9
• 申請日: 2020-10-20
• 公開（公告）號: CN112363261B
• 公開（公告）日: 2023-05-12
• 發明（設計）人: 趙大鵬;汪家春;程立;陳宗勝;李志剛;呂相銀;陳蕾蕾;時家明
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科技大學
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;G02B1/115;C23C14/30;C23C14/06
• 代理公司: 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385
• 代理人: 姚麗娜

1.一種非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜，其特征在于：該薄膜為非金屬多層膜結構，所述多層膜結構包括非金屬基底，以及在所述的基底上由內至外依次交替疊加的氟化鈣層和碲層；所述氟化鈣層的折射率為1.06-1.46，碲層的折射率為2.3-6.2；所述薄膜在3-5μm的平均反射率93.7％，在8-14μm的平均反射率77.6％，在5-8μm的平均反射率19.9％，在1.05-1.08μm的最大反射率9.2％，在10.55-10.65μm的最大反射率10.9％，能夠實現中遠紅外波段和激光波長的兼容隱身，同時在非探測波段具有較強散熱能力；所述中遠紅外波段的波長為3-5μm和8-14μm，所述激光波長為1.064μm和10.6μm，所述非探測波段的波長為5-8μm；

所采用隱身薄膜的制備方法，通過采用物理氣相沉積法于基底上依次交替沉積氟化鈣層和碲層；

所述基底上共疊加有13層膜層，且最內層和最外層均為氟化鈣層；所述的13層膜層由內至外的厚度依次為：910±20nm、700±20nm、210±10nm、290±10nm、60±10nm、1030±30nm、570±20nm、50±10nm、1330±30nm、150±10nm、430±20nm、120±10nm、980±10nm。

2.根據權利要求1所述的非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜，其特征在于：所述基底為PI、PET、TPU、PVC、BOPP等非金屬材料中的一種，從而具備良好的雷達波透明性。

3.根據權利要求1所述的非金屬材料的激光紅外多波段兼容隱身薄膜的制備方法，其特征在于：所述物理氣相沉積法為電子束蒸發鍍膜、熱蒸發鍍膜、磁控濺射鍍膜中的一種。