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[發明專利]芯片晶圓、芯片封裝結構及封裝方法在審

專利信息
申請號: 202011125655.3 申請日: 2020-10-20
公開(公告)號: CN112185827A 公開(公告)日: 2021-01-05
發明(設計)人: 程彥敏;殷昌榮 申請(專利權)人: 上海艾為電子技術股份有限公司
主分類號: H01L21/56 分類號: H01L21/56;H01L21/78;H01L23/31
代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 代理人: 姚璐華
地址: 201199 上海市*** 國省代碼: 上海;31
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摘要:
搜索關鍵詞: 芯片 封裝 結構 方法
【說明書】:

發明公開了一種芯片晶圓、芯片封裝結構及封裝方法,所述封裝方法包括:提供一半導體晶圓,所述半導體晶圓包括多個芯片基底,相鄰所述芯片基底之間具有劃片道;所述芯片基底具有相對的第一側和第二側;在所述第一側的有源層上形成第一互聯結構;形成第一塑封層,所述第一塑封層覆蓋所述第一邊緣區、所述第一互聯結構以及所述有源層;形成第二互聯結構,所述第二互聯結構覆蓋中間區域,露出第二邊緣區;形成第二塑封層,所述第二塑封層覆蓋所述第二互聯結構、所述第二邊緣區以及所述第一塑封層;基于所述劃片道進行分割,形成多個單粒的芯片封裝結構。應用本發明提供的技術方案,避免了切割導致的翹曲和隱裂問題,從而提升產品封裝的可靠性。

技術領域

本發明涉及芯片封裝技術領域,尤其是涉及一種芯片晶圓、芯片封裝結構及封裝方法。

背景技術

隨著科學技術的不斷發展,各種各樣的電子設備被廣泛的應用于人們的日常生活以及工作當中,為人們的日常生活以及工作帶來了巨大的便利,成為當今人們不可或缺的重要工具。

電子設備實現各種功能的核心部件是控制芯片,為了保證芯片安全可靠運行以及避免其受到損傷,芯片需要封裝保護形成封裝結構。現有的芯片封裝結構中,容易出現金屬層翹曲和隱裂問題,導致封裝結構的可靠性低。

發明內容

有鑒于此,本發明提供了一種芯片晶圓、芯片封裝結構及封裝方法,避免了切割導致的金屬層翹曲和隱裂問題,提升產品封裝的可靠性。

為了實現上述目的,本發明提供如下技術方案:

一種芯片封裝方法,所述封裝方法包括:

提供一半導體晶圓,所述半導體晶圓包括多個芯片基底,相鄰所述芯片基底之間具有劃片道;所述芯片基底具有相對的第一側和第二側;所述第一側具有功能區以及包圍所述功能區的第一邊緣區;所述第二側包括中間區域和包圍所述中間區域的第二邊緣區;

在所述第一側的有源層上形成第一互聯結構;所述有源層覆蓋所述功能區,露出所述第一邊緣區;

形成第一塑封層,所述第一塑封層覆蓋所述第一邊緣區、所述第一互聯結構以及所述有源層;在所述半導體晶圓具有所述有源層的一側表面,所述劃片道具有預設深度的溝槽;所述第一塑封層填充所述溝槽;

對所述半導體晶圓背離所述有源層的一側進行減薄,露出所述溝槽底部的第一塑封層;

在減薄后的所述第二側形成第二互聯結構,所述第二互聯結構覆蓋所述中間區域,露出所述第二邊緣區;

形成第二塑封層,所述第二塑封層覆蓋所述第二互聯結構、所述第二邊緣區以及所述第二側露出的所述第一塑封層;

基于所述劃片道進行分割,形成多個單粒的芯片封裝結構。

優選的,在上述的封裝方法中,所述第一互聯結構的形成方法包括:

形成覆蓋所述有源層的第一金屬層;

在所述第一金屬層上形成錫球。

優選的,在上述的封裝方法中,在形成所述第一塑封層之前,在所述劃片道形成設定深度的所述溝槽;

其中,所述溝槽的深度小于所述半導體晶圓的厚度。

優選的,在上述的封裝方法中,所述第二互聯結構的形成方法包括:

在減薄后的所述第二側形成圖形化的種子層,所述種子層覆蓋所述中間區域,露出所述第二邊緣區和所述第一塑封層;

形成圖形化的背面金屬層,所述背面金屬層覆蓋所述種子層,露出所述第二邊緣區和所述第一塑封層。

優選的,在上述的封裝方法中,所述種子層和所述背面金屬層的形成方法包括:

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