[發明專利]芯片晶圓、芯片封裝結構及封裝方法在審
| 申請號: | 202011125655.3 | 申請日: | 2020-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN112185827A | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發明(設計)人: | 程彥敏;殷昌榮 | 申請(專利權)人: | 上海艾為電子技術股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/56 | 分類號: | H01L21/56;H01L21/78;H01L23/31 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 姚璐華 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 芯片 封裝 結構 方法 | ||
本發明公開了一種芯片晶圓、芯片封裝結構及封裝方法,所述封裝方法包括:提供一半導體晶圓,所述半導體晶圓包括多個芯片基底,相鄰所述芯片基底之間具有劃片道;所述芯片基底具有相對的第一側和第二側;在所述第一側的有源層上形成第一互聯結構;形成第一塑封層,所述第一塑封層覆蓋所述第一邊緣區、所述第一互聯結構以及所述有源層;形成第二互聯結構,所述第二互聯結構覆蓋中間區域,露出第二邊緣區;形成第二塑封層,所述第二塑封層覆蓋所述第二互聯結構、所述第二邊緣區以及所述第一塑封層;基于所述劃片道進行分割,形成多個單粒的芯片封裝結構。應用本發明提供的技術方案,避免了切割導致的翹曲和隱裂問題,從而提升產品封裝的可靠性。
技術領域
本發明涉及芯片封裝技術領域,尤其是涉及一種芯片晶圓、芯片封裝結構及封裝方法。
背景技術
隨著科學技術的不斷發展,各種各樣的電子設備被廣泛的應用于人們的日常生活以及工作當中,為人們的日常生活以及工作帶來了巨大的便利,成為當今人們不可或缺的重要工具。
電子設備實現各種功能的核心部件是控制芯片,為了保證芯片安全可靠運行以及避免其受到損傷,芯片需要封裝保護形成封裝結構。現有的芯片封裝結構中,容易出現金屬層翹曲和隱裂問題,導致封裝結構的可靠性低。
發明內容
有鑒于此,本發明提供了一種芯片晶圓、芯片封裝結構及封裝方法,避免了切割導致的金屬層翹曲和隱裂問題,提升產品封裝的可靠性。
為了實現上述目的,本發明提供如下技術方案:
一種芯片封裝方法,所述封裝方法包括:
提供一半導體晶圓,所述半導體晶圓包括多個芯片基底,相鄰所述芯片基底之間具有劃片道;所述芯片基底具有相對的第一側和第二側;所述第一側具有功能區以及包圍所述功能區的第一邊緣區;所述第二側包括中間區域和包圍所述中間區域的第二邊緣區;
在所述第一側的有源層上形成第一互聯結構;所述有源層覆蓋所述功能區,露出所述第一邊緣區;
形成第一塑封層,所述第一塑封層覆蓋所述第一邊緣區、所述第一互聯結構以及所述有源層;在所述半導體晶圓具有所述有源層的一側表面,所述劃片道具有預設深度的溝槽;所述第一塑封層填充所述溝槽;
對所述半導體晶圓背離所述有源層的一側進行減薄,露出所述溝槽底部的第一塑封層;
在減薄后的所述第二側形成第二互聯結構,所述第二互聯結構覆蓋所述中間區域,露出所述第二邊緣區;
形成第二塑封層,所述第二塑封層覆蓋所述第二互聯結構、所述第二邊緣區以及所述第二側露出的所述第一塑封層;
基于所述劃片道進行分割,形成多個單粒的芯片封裝結構。
優選的,在上述的封裝方法中,所述第一互聯結構的形成方法包括:
形成覆蓋所述有源層的第一金屬層;
在所述第一金屬層上形成錫球。
優選的,在上述的封裝方法中,在形成所述第一塑封層之前,在所述劃片道形成設定深度的所述溝槽;
其中,所述溝槽的深度小于所述半導體晶圓的厚度。
優選的,在上述的封裝方法中,所述第二互聯結構的形成方法包括:
在減薄后的所述第二側形成圖形化的種子層,所述種子層覆蓋所述中間區域,露出所述第二邊緣區和所述第一塑封層;
形成圖形化的背面金屬層,所述背面金屬層覆蓋所述種子層,露出所述第二邊緣區和所述第一塑封層。
優選的,在上述的封裝方法中,所述種子層和所述背面金屬層的形成方法包括:
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





