[發明專利]曝光機

有效

• 申請號: 202011125345.1
• 申請日: 2020-10-20
• 公開（公告）號: CN112198767B
• 公開（公告）日: 2022-11-08
• 發明（設計）人: 王虎
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 遠明

本申請提出了一種曝光機，其包括用于承載待曝光的目標基板的載臺，位于該載臺上的光源組件、位于該載臺與該光源組件之間的擋板組件；該擋板組件包括至少一層疊設置的擋板構件，任一該擋板構件至少包括沿第一方向設置的兩個擋板，任一該擋板包括至少兩個滑動連接的擋條，該擋板上的擋條形成該曝光機的目標曝光圖案。本申請通過將曝光機中的至少一個擋板設置成由多個可移動的擋條構成，使得該擋條能夠形成非規則的曝光圖案，滿足現有曝光工藝中對曝光圖案的個性化需求。

技術領域

本申請涉及顯示領域，特別涉及一種曝光機。

背景技術

在顯示領域中，光刻工藝過程中需要使用帶有圖形的掩模板及曝光機對待曝光的基板進行曝光，成膜后的基板經曝光、刻蝕等工藝，形成具有一定圖案的器件或者紫外掩模玻璃板(UV Mask Glass)。

現有曝光機一般包括前后左右四塊擋板，其通過移動該擋板機構控制光照射區域的面積。在現有曝光機的擋板機構實現遮擋功能時，任一擋板的邊界為同時進退以及同時遮擋，其實現的曝光區域為規則的矩形。而在實際的曝光過程中，部分邊界區域需要被遮光或者部分邊界區域需要被曝光，而現有技術中的曝光機無法滿足目前的曝光需求，其需要額外增加一道曝光工藝，導致制程的復雜以及成本的增加。

因此，亟需一種曝光機以解決上述技術問題。

發明內容

本申請提供一種曝光機，以解決現有曝光機無法形成非規則曝光圖案的技術問題。

為解決上述問題，本申請提供的技術方案如下：

本申請提出了一種曝光機，其包括：

載臺，用于承載待曝光的目標基板；

光源組件，位于所述載臺上，以及用于提供曝光光源；

擋板組件，位于所述載臺與所述光源組件之間，所述擋板組件包括至少一層疊設置的擋板構件，任一所述擋板構件至少包括沿第一方向設置的兩個擋板，任一所述擋板包括至少兩個擋條，任一所述擋條在所述第一方向上移動，所述擋板上的擋條形成所述曝光機的目標曝光圖案。

在本申請的曝光機中，所述擋板組件包括第一擋板構件，所述第一擋板構件包括沿第一方向設置的第一擋板和第三擋板、以及沿第二方向設置的第二擋板和第四擋板，所述第一擋板和所述第三擋板在所述第一方向上移動，所述第二擋板和所述第四擋板在所述第二方向上移動；

所述第一擋板包括至少兩個第一擋條，所述第二擋板包括至少兩個第二擋條，所述第三擋板包括至少兩個第三擋條，所述第四擋板包括至少兩個第四擋條，所述第一擋條和所述第三擋條在所述第一方向上移動，所述第二擋條和所述第四擋條在所述第二方向上移動；

至少兩個所述第一擋條、至少兩個所述第二擋條、至少兩個所述第三擋條、及至少兩個所述第四擋條形成所述曝光機的第一曝光圖案。

在本申請的曝光機中，所述擋板組件還包括位于所述第一擋板構件一側的第二擋板構件，所述第二擋板構件包括沿第三方向設置的兩個擋板以及沿第四方向設置的兩個擋板，所述第二擋板構件上的擋板形成所述曝光機的第二曝光圖案，所述第一曝光圖案與所述第二曝光圖案的疊加形成所述目標曝光圖案。

在本申請的曝光機中，所述第一曝光圖案的中心與所述第二曝光圖案的中心重合。

在本申請的曝光機中，所述第一擋板構件以所述第一曝光圖案的中心軸旋轉X，所述第一擋板構件與所述第二擋板構件重合。

在本申請的曝光機中，相鄰兩個所述擋條具有重疊部分。

在本申請的曝光機中，相鄰兩個所述擋條錯位設置；或者，所述擋條呈T字型，相鄰兩個所述擋條搭接設置。