[發明專利]一種具有高單線態氧產率的光敏劑及其制備方法有效
| 申請號： | 202011122256.1 | 申請日： | 2020-10-20 |
| 公開（公告）號： | CN112375089B | 公開（公告）日： | 2022-01-21 |
| 發明（設計）人： | 呂世博;苗鈺陽;劉大鵬;宋鋒玲 | 申請（專利權）人： | 山東大學 |
| 主分類號： | C07D513/04 | 分類號： | C07D513/04;C09K11/06;A61K41/00;A61P35/00 |
| 代理公司： | 青島華慧澤專利代理事務所(普通合伙) 37247 | 代理人： | 劉娜 |
| 地址： | 266200 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 單線 態氧產率 光敏劑 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種具有高單線態氧產率的光敏劑的制備方法，其特征在于，該光敏劑其結構式如下：
其制備方法如下：采用Suzuki偶聯反應，將4,8-二溴-6-(2-乙基己基)-[1,2,5]噻二唑[3,4-F]苯并三氮唑與4-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-2-基)吡啶，在[1,1'-雙(二苯基膦基)二茂鐵]二氯化鈀的催化下反應，通過氧化加成和還原消除得到該光敏劑。
2.根據權利要求1所述的一種具有高單線態氧產率的光敏劑的制備方法，其特征在于，該反應在惰性氣體氛圍下進行。
3.根據權利要求1所述的一種具有高單線態氧產率的光敏劑的制備方法，其特征在于，反應溫度為80℃，反應24小時。
4.根據權利要求1所述的一種具有高單線態氧產率的光敏劑的制備方法，其特征在于，將反應液用二氯甲烷萃取分離并過柱提純。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于山東大學，未經山東大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011122256.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：用戶積分數值對賬測試方法及系統
- 下一篇：一種絕緣粉末涂料及其制備方法
