[發(fā)明專利]一種模態(tài)質量的測量方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011121954.X | 申請日: | 2020-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN112231916A | 公開(公告)日: | 2021-01-15 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊正璽;高勇;肖登紅;鄒蕊璐;李乃田;李增文 | 申請(專利權)人: | 北京機電工程研究所 |
| 主分類號: | G06F30/20 | 分類號: | G06F30/20;G06F119/14 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100074 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 質量 測量方法 | ||
1.一種模態(tài)質量的測量方法,其特征在于,所述方法包括:
建立待測結構件在N階模態(tài)的共振,其中,N≥1,且為整數(shù);
在處于N階模態(tài)共振的待測結構件上依次放置配重部件,分別建立每次放置配重部件后的待測結構件在N階模態(tài)的共振,并獲取每次放置配重部件后的待測結構件的N階共振頻率,其中,依次放置的所有配重部件的質量之和小于待測結構件質量的百分之一;
基于每次放置的配重部件的質量和與每次放置的配重部件的位置對應的N階歸一化振型獲取每次放置配重部件后的待測結構件的N階模態(tài)質量變化量;
對每次放置配重部件后的待測結構件的N階共振頻率和每次放置配重部件后的待測結構件的N階模態(tài)質量變化量進行擬合處理,獲取N階共振頻率與N階模態(tài)質量變化量的擬合曲線;
基于N階共振頻率與N階模態(tài)質量變化量的擬合曲線獲取擬合曲線的斜率;
基于擬合曲線的斜率和第一次放置配重部件后的待測結構件的N階共振頻率獲取待測結構件的N階模態(tài)質量。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,通過下式獲取每次放置配重部件后的待測結構件的N階模態(tài)質量變化量:
式中,ΔMi為第i次放置配重部件后的待測結構件的N階模態(tài)質量變化量,mp為放置在待測結構件某一位置p上所有配重部件的質量之和,φp為與位置p對應的N階歸一化振型。
3.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,通過下式獲取待測結構件的N階模態(tài)質量:
式中,M為待測結構件的N階模態(tài)質量,ω1為第一次放置配重部件后的待測結構件的N階共振頻率,k為擬合曲線的斜率。
4.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,在處于N階模態(tài)共振的待測結構件上依次放置配重部件包括:在處于N階模態(tài)共振的待測結構件上同一位置或不同位置依次放置配重部件。
5.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,每次放置配重部件的數(shù)量為一個或者多個。
6.根據(jù)權利要求5所述的方法,其特征在于,每次放置配重部件的數(shù)量為多個的情況下,每個配重部件放置于待測結構件上的同一位置或不同位置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京機電工程研究所,未經(jīng)北京機電工程研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011121954.X/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





