[發明專利]一種便于清理的化學機械拋光設備的拋光方法

在審

• 申請號: 202011113380.1
• 申請日: 2019-12-02
• 公開（公告）號: CN112338795A
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發明（設計）人: 董興超
• 申請（專利權）人: 深圳市安達工業設計有限公司
• 主分類號: B24B37/11
• 分類號: B24B37/11;B24B37/27;B24B37/34;B24B47/12;B24B47/22;B24B57/02
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本發明公開了一種便于清理的化學機械拋光設備的拋光方法，包括底座和產品，所述底座內部開設有第一固定槽，其中，所述第一固定槽內部安裝有滴液分配器，所述滴液分配器頂部連接有第一滴液管，靠近第一滴液管的所述滴液分配器頂部連接有第二滴液管，靠近第一固定槽的所述底座內部安裝有第一電機，所述第一電機一側套接有第一旋轉塊。該便于清理的化學機械拋光設備的拋光方法設置有產品在打磨時第二滴液管會將打磨液輸送到打磨墊上，打磨墊會將打磨后的打磨液流淌到打磨槽內，以便打磨槽可以將打磨液輸送到導向槽內，由導向槽將打磨液輸送到儲存槽內，從而產品打磨結束后可以將儲存槽與第一連接槽進行分離，方便儲存槽可以將打磨后的雜質與打磨液進行清理。

技術領域

本發明涉及化學機械拋光設備技術領域，具體為一種便于清理的化學機械拋光設備的拋光方法。

背景技術

化學機械拋光設備是集成電路制造中獲得全局平坦化的一種手段，這種工藝就是為了能夠獲得既平坦、又無劃痕和雜質玷污的表面而專門設計的，現有的化學機械拋光設備打磨后的雜質不方便清理，打磨墊旋轉時容易偏移，旋轉盤不方便安裝，拋光設備不方便調節角度，固定塊不方便更換，產品不方便固定。

目前市場上的化學機械拋光設備存在許多缺陷，打磨后的雜質不方便清理，打磨墊旋轉時容易偏移，旋轉盤不方便安裝，拋光設備不方便調節角度，固定塊不方便更換，產品不方便固定，因此市面上迫切需要能改進便于清理的化學機械拋光設備的拋光方法結構的技術，來完善此設備。

發明內容

本發明的目的在于提供一種便于清理的化學機械拋光設備的拋光方法，以解決上述背景技術提出的目前市場上的化學機械拋光設備存在許多缺陷，打磨后的雜質不方便清理，打磨墊旋轉時容易偏移，旋轉盤不方便安裝，拋光設備不方便調節角度，固定塊不方便更換，產品不方便固定的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種便于清理的化學機械拋光設備的拋光方法，包括底座和產品，所述底座內部開設有安裝槽，其中，

所述安裝槽內部安裝有滴液分配器，所述滴液分配器頂部連接有第一滴液管，靠近第一滴液管的所述滴液分配器頂部連接有第二滴液管，靠近安裝槽的所述底座內部安裝有第一電機，所述第一電機一側套接有第一旋轉塊，所述第一旋轉塊一側固定有第一固定塊，所述第一固定塊一側套接有固定墊，所述第一旋轉塊一側設置有旋轉盤，靠近第一旋轉塊的所述旋轉盤一側開設有第一固定槽；

靠近第一固定塊的所述第一固定槽一側開設有第二固定槽，所述旋轉盤頂部固定有第一磁性墊，所述第一磁性墊另一側連接有第二磁性墊，所述第二磁性墊另一側固定有打磨墊，遠離安裝槽所述底座內部一側開設有第一連接槽，所述第一連接槽內部嵌合有儲存槽，靠近旋轉盤的所述底座頂部開設有打磨槽，所述打磨槽與第一連接槽之間的底座開設有導向槽；

靠近打磨槽的所述底座頂部固定有阻擋塊，所述阻擋塊一側設置有第一擠壓塊，靠近阻擋塊的所述第一擠壓塊內部開設有第三固定槽，遠離第三固定槽的所述阻擋塊一側開設有第二連接槽，所述第二連接槽一側連接有第一旋轉桿，所述第一旋轉桿一側連接有滑輪，靠近阻擋塊的所述底座頂部固定有固定桿，所述固定桿頂部開設有第四固定槽，所述第四固定槽一側開設有第三連接槽，所述第三連接槽內部連接有螺紋桿，所述螺紋桿一端開設有第四連接槽，所述第四連接槽嵌合有連接桿，所述連接桿一端固定有把手，所述第四固定槽內部嵌合有第二旋轉塊，所述第二旋轉塊頂部固定有第二旋轉桿，所述第二旋轉桿頂部固定有外殼，所述外殼一側安裝有操作面板，所述外殼內部安裝有主體；