[發明專利]一種高均勻性全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的制備方法及其制品

有效

• 申請號: 202011113064.4
• 申請日: 2020-10-16
• 公開（公告）號: CN112250438B
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發明（設計）人: 劉志;劉琪
• 申請（專利權）人: 江西德鋯美瓷有限公司
• 主分類號: C04B35/48
• 分類號: C04B35/48;A61K6/818;A61K6/887;A61K6/71;C04B35/634;B28B3/00;B28B3/02
• 代理公司: 廣州廣信知識產權代理有限公司 44261
• 代理人: 李玉峰

1.一種高均勻性全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

(1) 將球形粉體顆粒注入模具腔體進行干壓，得到干壓坯體；所述粉體由氧化鋯基料和外加物組成；所述氧化鋯基料的組成為氧化鋯90～96 wt%、添加物4～10 wt%，其中添加物為氧化釔、氧化鉺、氧化鐠、氧化釹、氧化鈷、氧化錳、氧化鐵、氧化鈰、氧化鑭、氧化鐿、氧化鎵中的一種或其組合；所述外加物為Tg為-30 ^oC≤Tg≤60^oC的丙烯酸樹脂，其用量為氧化鋯基料的2～10 wt%；所述粉體中含有兩種或兩種以上不同Tg的丙烯酸樹脂；

(2) 所述干壓坯體經真空包裝后，放入溫等靜壓機腔體中進行溫壓，得到溫壓坯體；

(3) 將所述溫壓坯體更換真空包裝，放入冷等靜壓機腔體中進行震蕩冷壓，升壓速率為2 MPa/s，最高壓力為250～300 MPa，高壓保壓時間為300～900 s，高壓震蕩幅度為10～50 MPa，震蕩頻率為0.2～50 Hz，即得到高均勻性全瓷義齒用氧化鋯瓷塊。

2.根據權利要求1所述的高均勻性全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的制備方法，其特征在于：所述粉體的平均團聚尺寸為0.1～0.5 μm。

3.根據權利要求1所述的高均勻性全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的制備方法，其特征在于：所述步驟(2)中的溫壓參數為溫度80～90 ^oC，壓力90～120 MPa。

4.利用權利要求1-3之一所述高均勻性全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的制備方法得到的制品。

5.根據權利要求4所述的高均勻性全瓷義齒用氧化鋯瓷塊的制備方法得到的制品，其特征在于：所述氧化鋯瓷塊制品各區域的密度差異≤0.05 g/cm³，韋伯模數≥12.2。