[發明專利]取代的2-苯胺基嘧啶衍生物及其作為表皮生長因子受體調節劑在審
| 申請號: | 202011112986.3 | 申請日: | 2015-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN112457298A | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發明(設計)人: | J·彭;M·J·科斯坦佐;M·N·格雷科;M·A·格林;V·L·懷爾德;D·張 | 申請(專利權)人: | 貝達醫藥公司;上海倍而達藥業有限公司 |
| 主分類號: | C07D403/04 | 分類號: | C07D403/04;C07D471/04;C07D403/14;C07D401/14;A61P35/00;A61K31/506 |
| 代理公司: | 北京知元同創知識產權代理事務所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 鄒智弘;張炳楠 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 取代 苯胺 嘧啶 衍生物 及其 作為 表皮 生長因子 受體 調節劑 | ||
1.如式I的化合物:
或其藥學上可接受的鹽,溶劑化物,或前藥,其中:
G選自取代或未取代的1H-吲哚-3-基,經取代或未經取代的1H-吲唑-3-基,取代或未取代的-2H-吲唑-3-基,和取代或未取代的吡唑并[1,5-α]吡啶-3-基,和經取代或未經取代之4,5,6,7-四氫吡唑并[1,5-a]吡啶-3-基;
X選自氧,硫和亞甲基;
R1選自氫,鹵素,甲基,三氟甲基和氰基;
R2,R3和R4相同或不同,且獨立地選自氫,鹵素和三氟甲基;
R5選自低級烷基,任選取代的3-至6-元雜環基,R7R8N-(低級烷基),和R7R8N-(環烷基烷基),其中R 7和R 8相同或不同,且獨立地選自氫和低級烷基;且
R6選自低級烷氧基和低級烷基。
2.如權利要求1所述的化合物,或其藥學上可接受的鹽,溶劑化物或前藥,其中:G選自由以下組成之群1H-吲哚-3-基,1-甲基-1H-吲哚-3-基,1-(2-氟乙基)1H-吲哚-3-基,1,2-二甲基-1H-吲哚-3-基,吡唑并[1,5-α]吡啶-3-基,4,5,6,7-四氫吡唑并[1,5-a]吡啶-3-基,1-甲基-1H-吲唑-3-基,2-甲基-2H-吲唑-3-基。
3.如權利要求1或2所述的化合物,或其藥學上可接受的鹽,溶劑化物或前藥,其中:
R5選自C1-C6烷基,取代的或未取代的氮丙啶基,取代或未取代的吡咯烷基,取代或未取代的哌啶基,R7R8N-(CH2)n-(n=1至5),R7R8N-(C3-C6環烷基)-(CH2)m-(m=1至3),其中R7和R8可相同或不同且獨立地選自氫和低級烷基。
4.如權利要求3所述的化合物,或其藥學上可接受的鹽,溶劑化物或前藥,其中:
R5選自甲基,1-(二甲基氨基)環丙基甲基,3-(二甲基氨基)環丁基,1-甲基氮雜3-基,(R)-1-甲基吡咯烷-3-基,(S)-1-甲基吡咯烷-3-基,和1-甲基哌啶-4-基,2-二甲基氨基-乙基。
5.如權利要求1至4中的任一項所述的化合物,或其藥學上可接受的鹽,溶劑化物或前藥,其中R1為氫,鹵素或甲基。
6.權利要求5所述的化合物,或其藥學上可接受的鹽,溶劑化物或前藥,其中R1為氫。
7.如權利要求1至6中的任一項所述的化合物,或其藥學上可接受的鹽,溶劑化物或前藥,其中R2為氫或鹵素。
8.如權利要求1至7中的任一項所述的化合物,或其藥學上可接受的鹽,溶劑化物或前藥,其中R4為氫。
9.如權利要求1至6中的任一項所述的化合物,或其藥學上可接受的鹽,溶劑化物或前藥,其中:
R2為氫,F或Cl;
R3為氫,F,Cl或-CF3;且
R 4為氫。
10.如權利要求1至9中的任一項所述的化合物,或藥學上可接受的鹽,溶劑化物或前藥,其中X為氧。
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