[發明專利]一種低濃度ROS的檢測方法及其應用有效
| 申請號: | 202011106529.3 | 申請日: | 2020-10-16 |
| 公開(公告)號: | CN112326607B | 公開(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發明(設計)人: | 侯森;俞大良;查英英 | 申請(專利權)人: | 暨南大學 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245 | 代理人: | 蘇運貞 |
| 地址: | 510632 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 濃度 ros 檢測 方法 及其 應用 | ||
1.一種低濃度ROS的檢測方法,其特征在于包括如下步驟:
(1)在不同程度氧化損傷刺激產生ROS的細胞中加入DCFH-DA溶液,避光孵育,沖洗,獲得待測細胞樣品;
(2)將待測細胞樣品采用燈光照射,檢測熒光信號值,根據不同待測細胞樣品的熒光信號值相對大小,即可判斷不同待測細胞樣品中ROS含量的相對高低;
步驟(1)中所述的不同程度氧化損傷刺激產生ROS的細胞是ROS含量低,采用現有的活性氧檢測試劑盒檢測不出ROS含量的細胞;所述的檢測不出ROS含量是指檢測出的數值與空白背景值相差不大,統計分析出的P值大于0.05,沒有顯著性差異;所述的現有的活性氧檢測試劑盒檢測ROS時DCFH-DA在體系中的終濃度為10 μM;通過如下制備方法得到:將細胞接種至96孔板,每孔15000個細胞,細胞貼壁生長12 h,至匯合度達到50~70%,加入H2O2溶液刺激細胞,37℃避光培養30 min,使用1×PBS緩沖液沖洗細胞,去除殘留的刺激物;所用的H2O2溶液的濃度為體積比0.03~0.06%;
步驟(1)中所述的DCFH-DA溶液是采用含1%青霉素-鏈霉素雙抗溶液的高糖DMEM無血清培養基稀釋DCFH-DA至濃度為2~10 μM,調節溶液pH至7.0得到;
步驟(1)中所述的避光孵育的時間為15~60 min;
步驟(2)中所述的燈光照射的時間為5~10 min;
步驟(2)中所述的燈光照射的光功率密度為5.43~13.40 mW/cm2。
2.根據權利要求1所述的低濃度ROS的檢測方法,其特征在于,
步驟(1)中所述的DCFH-DA溶液采用高糖DMEM無血清培養基稀釋至濃度為10 μM;
步驟(1)中所述的避光孵育的時間為30 min;
步驟(2)中所述的燈光照射的時間為10 min;
步驟(2)中所述的燈光照射的光功率密度為13.40 mW/cm2。
3.根據權利要求1所述的低濃度ROS的檢測方法,其特征在于,
步驟(1)中沖洗細胞為采用PBS緩沖液沖洗2~3次,去除未進入細胞內的DCFH-DA溶液;
步驟(2)中所述的燈光照射為采用LED燈或日光燈照射;
步驟(2)中所述的檢測熒光信號值為采用多功能酶標儀檢測,檢測熒光信號的激發波長為488nm,發射波長為525nm。
4.根據權利要求1所述的低濃度ROS的檢測方法,其特征在于,所述的接種采用的細胞生長培養基的配置:89mL高糖型DMEM培養基、10 mL胎牛血清、1 mL100×青霉素-鏈霉素雙抗溶液,調節pH至7.0。
5.權利要求1~4任一項所述的低濃度ROS的檢測方法在生物科學研究中的應用。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于暨南大學,未經暨南大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011106529.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





