[發(fā)明專利]測量裝置和傳感器封裝體

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011102532.8
• 申請日: 2020-10-15
• 公開（公告）號: CN112665616A
• 公開（公告）日: 2021-04-16
• 發(fā)明（設計）人: U·奧塞勒克納
• 申請（專利權）人: 英飛凌科技股份有限公司
• 主分類號: G01D5/14
• 分類號: G01D5/14;G01R33/022;G01B7/30
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 閆昊

在此公開了一種測量裝置和傳感器封裝體。一種測量裝置包括第一軟磁元件、第二軟磁元件、被構造成產生磁場的與第一軟磁元件機械耦聯(lián)的磁性元件、以及用于檢測磁場的傳感器裝置，傳感器裝置被布置成：使得第一軟磁元件與傳感器裝置之間的相對運動導致傳感器裝置的位置處的磁場的變化。傳感器裝置被構造用于確定所述變化。傳感器裝置和磁性元件布置在第一軟磁元件和第二軟磁元件之間。

技術領域

本公開涉及一種尤其是用于檢測軟磁元件相對于傳感器裝置的相對位置的測量裝置、一種具有傳感器裝置和軟磁元件的傳感器封裝體、一種用于檢測軟磁元件的相對位置的方法、一種用于提供測量裝置的方法以及一種用于制造傳感器裝置的方法。本公開還涉及用于具有含鐵軸的系統(tǒng)的具有霍爾板的抗雜散場角度傳感器，以及涉及磁性的角度傳感器。

背景技術

磁性的角度傳感器包括產生磁場的磁體。相對于具有四個傳感器元件的傳感器裝置(例如霍爾傳感器)的旋轉導致成對測量，例如A-C和B-D，其中A、B、C和D作為霍爾傳感器。系統(tǒng)可以基于反正切函數(shù)、例如ARCTAN(A-C)/(B-D)來計算角度。這樣的系統(tǒng)使得能夠通過形成差A-C和B-D來補償均勻的干擾，這也被稱為梯度測量測量原理。

發(fā)明內容

值得期望的是一種測量裝置、一種傳感器封裝體以及一種用于檢測軟磁元件的相對位置的方法、一種用于提供測量裝置的方法以及一種用于制造傳感器裝置的方法，所述測量裝置、傳感器封裝體以及方法即使在使用軟磁材料時也能夠實現(xiàn)可靠的測量。

實施例提供了一種具有第一軟磁元件和第二軟磁元件的測量裝置。測量裝置包括與第一軟磁元件機械耦聯(lián)的磁性元件，該磁性元件被構造成產生磁場。測量裝置還包括用于檢測磁場的傳感器裝置，該傳感器裝置被布置成使得第一軟磁元件與傳感器裝置之間的相對運動導致傳感器裝置的位置處的磁場的變化，其中傳感器裝置構造用于確定所述變化。傳感器裝置和磁性元件布置在第一軟磁元件和第二軟磁元件之間。

根據(jù)一個實施例，傳感器封裝體包括用于檢測外部磁場的傳感器裝置，其中傳感器裝置的傳感器元件布置在一個平面中。傳感器裝置具有在平面內的幾何重心。傳感器封裝體包括圍繞元件對稱軸線旋轉對稱地形成的軟磁元件，其中所述幾何中心沿著元件對稱軸線布置。

根據(jù)一個實施例，用于檢測第一軟磁元件的相對位置的方法包括：利用傳感器設備檢測磁場，該磁場隨著第一軟磁元件在傳感器設備的位置處的相對位置而變化。該方法還包括：通過第二軟磁元件在傳感器裝置的位置處，相對于第一軟磁元件對稱地并且關于所述傳感器裝置對稱地影響所述磁場。

根據(jù)一個實施例，用于提供測量裝置的方法包括布置第一軟磁元件和傳感器裝置，使得彼此的相對位置基于相對運動是可變的。該方法包括布置磁性元件以產生磁場，該磁場在傳感器裝置的位置處基于相對運動是可變的。該方法還包括布置第二軟磁元件，使得傳感器裝置和磁性元件布置在第一軟磁元件與第二軟磁元件之間。

根據(jù)一個實施例，用于制造傳感器裝置的方法包括在晶片的第一主側上布置多個傳感器裝置，使得多個傳感器裝置中的每個傳感器裝置具有多個傳感器元件。該方法包括將與多個傳感器裝置對應數(shù)量的軟磁元件布置在晶片的第二主側上，使得軟磁元件分別與傳感器裝置相對置。該方法包括在布置多個傳感器裝置之后分離多個傳感器裝置。在以下內容中限定其它實施例。

附圖說明

下面將參照附圖來闡述實施例。示出了：

圖1示出根據(jù)一個實施例的測量裝置的示意框圖；

圖2示出已知測量裝置的示意側視截面圖；

圖3示出根據(jù)一個實施例的測量裝置的示意側視截面圖，該測量裝置將圖2中的測量裝置擴展了一個軟磁元件；

圖4a示出用于闡述根據(jù)圖2的測量裝置中的磁場影響的示意側視截面圖；

圖4b示出用于闡述根據(jù)一個實施例的不完整的測量裝置中的磁場影響的示意側視截面圖，其中布置有圖3中的補充的軟磁元件；