[發(fā)明專利]一種應(yīng)用于HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的氣體提純裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011098035.5
• 申請(qǐng)日: 2020-10-14
• 公開（公告）號(hào): CN112323041B
• 公開（公告）日: 2022-11-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉健;姚慶;吳海燕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇鑫漢電子材料有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/44
• 分類號(hào): C23C16/44;C23C16/32;B01D46/10;B01D53/00;B01D53/26
• 代理公司: 上海創(chuàng)開專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31374
• 代理人: 吳海燕

本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的氣體提純裝置，涉及碳化硅生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體為殼體和凈化裝置，所述殼體左端設(shè)置有加熱端頭，且加熱端頭內(nèi)壁安置有加熱絲，所述加熱端頭左端連接有進(jìn)氣端頭，且進(jìn)氣端頭左端連接有第一單向閥，所述殼體內(nèi)部安置有冷凝管，該應(yīng)用于HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的氣體提純裝置，設(shè)置的干燥箱內(nèi)部存在的干燥球采用中性顆粒干燥劑，中性顆粒干燥劑一般可以干燥各種氣體，可有效對(duì)反應(yīng)氣體進(jìn)行進(jìn)一步干燥處理，可通過擰松箱蓋抓握把手將干燥箱從殼體內(nèi)部進(jìn)行拆卸，并通過滑開干燥箱底端下表面的封板對(duì)其內(nèi)部的干燥球進(jìn)行更換，從而保證干燥箱后續(xù)的干燥效果，干燥后的反應(yīng)氣體可有效保證碳化硅的生成效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及碳化硅生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種應(yīng)用于HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的氣體提純裝置。

背景技術(shù)

在高溫化學(xué)氣相沉積法(HTCVD)生長(zhǎng)碳化硅晶體是指在密閉的反應(yīng)器中，外部加熱使反應(yīng)室保持所需要的反應(yīng)溫度，反應(yīng)氣體SiH4由H2或He載帶，途中和CH4混合，再一起2000～2300高溫通如反應(yīng)器中，反應(yīng)氣體在高溫下分解生成碳化硅并附著在襯底材料表面，從而達(dá)到生長(zhǎng)碳化硅的作用，在通入反應(yīng)氣體之前需要先經(jīng)過氣體提純方可進(jìn)入反應(yīng)室中進(jìn)行反應(yīng)，所以一種應(yīng)用于HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的氣體提純裝置顯得尤為重要。

目前在運(yùn)用HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的過程中，其通入的反應(yīng)氣體中可能存在濕度較高的情況，或者內(nèi)部的灰塵雜質(zhì)導(dǎo)致反應(yīng)氣體純度較低，從而影響到碳化硅生成的質(zhì)量不佳，針對(duì)上述情況我們推出了一種應(yīng)用于HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的氣體提純裝置顯得尤為重要。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種應(yīng)用于HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的氣體提純裝置，解決了上述背景技術(shù)中提出的目前在運(yùn)用HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的過程中，其通入的反應(yīng)氣體中可能存在濕度較高的情況，或者內(nèi)部的灰塵雜質(zhì)導(dǎo)致反應(yīng)氣體純度較低，從而影響到碳化硅生成的質(zhì)量不佳的問題。

為實(shí)現(xiàn)以上目的，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：一種應(yīng)用于HTCVD法生長(zhǎng)碳化硅的氣體提純裝置，包括殼體和凈化裝置，所述殼體左端設(shè)置有加熱端頭，且加熱端頭內(nèi)壁安置有加熱絲，所述加熱端頭左端連接有進(jìn)氣端頭，且進(jìn)氣端頭左端連接有第一單向閥，所述殼體內(nèi)部安置有冷凝管，且冷凝管外壁固定有銅片，所述銅片末端連接有導(dǎo)流片，且導(dǎo)流片的下方殼體內(nèi)壁的上表面固定有導(dǎo)流底板，所述殼體下表面設(shè)置有排水口，且排水口下端連接有收集罐，所述冷凝管右方固定有第一隔板，且第一隔板外表面開設(shè)有通氣口，所述殼體內(nèi)部靠近第一隔板右側(cè)安置有干燥箱，且干燥箱內(nèi)部設(shè)置有干燥球，所述干燥箱上端設(shè)置有箱蓋，且干燥箱底端下表面設(shè)置有封板，所述干燥箱右側(cè)固定有第二隔板，且殼體上表面位于干燥箱和第二隔板間隙處連接有彎管，所述凈化裝置安置于第二隔板右側(cè)，所述殼體下表面靠近凈化裝置的一方連接有出氣端頭，且出氣端頭下端連接有第二單向閥，所述第二單向閥下端連接有流量計(jì)。

可選的，所述加熱端頭內(nèi)壁環(huán)繞分布有加熱絲，且加熱端頭通過進(jìn)氣端頭與第一單向閥之間構(gòu)成固定連接，而且加熱端頭與殼體之間構(gòu)成焊接一體化結(jié)構(gòu)。

可選的，所述進(jìn)氣端頭與第一單向閥之間為螺紋連接，且進(jìn)氣端頭的中垂線與加熱端頭的中垂線相重合。

可選的，所述導(dǎo)流片關(guān)于冷凝管的豎直中心線呈對(duì)稱分布，且冷凝管外壁環(huán)繞分布有銅片，而且導(dǎo)流片與銅片之間構(gòu)成半包圍結(jié)構(gòu)。

可選的，所述導(dǎo)流底板呈傾斜結(jié)構(gòu)，且導(dǎo)流底板與第一隔板之間呈垂直分布，而且第一隔板外表面均勻開設(shè)有通氣口。

可選的，所述干燥箱外表面呈網(wǎng)口狀，且干燥箱的網(wǎng)口直徑小于干燥球的外口直徑。

可選的，所述封板與干燥箱之間為活動(dòng)連接，且干燥箱通過箱蓋與殼體之間為固定結(jié)構(gòu)。

可選的，所述凈化裝置包括箱殼、螺桿、壓板和過濾片，所述箱殼內(nèi)部連接有螺桿，且螺桿外表面設(shè)置有壓板，所述壓板下表面安置有過濾片。