[發明專利]顯示面板及其制作方法

在審

• 申請號: 202011093878.6
• 申請日: 2020-10-14
• 公開（公告）號: CN112259694A
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發明（設計）人: 苗洋
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L27/32;H01L21/77;B82Y40/00;B82Y30/00
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 王紅紅

本發明公開了一種顯示面板及其制作方法，包括：襯底層；位于所述襯底層上的發光器件層、像素定義層以及陰極層，所述像素定義層具有多個像素開口，且所述多個像素開口中的每一者內皆設置有所述發光器件層，所述陰極層至少連續地覆蓋所述多個像素開口并與所述發光器件層搭接；光提取薄膜，對應所述多個像素開口設置于所述陰極層上；以及導通層，設置于所述陰極層上，且所述導通層在所述像素定義層上的投影與所述多個像素開口相錯開；相較于現有技術，本發明提高了顯示面板的光提取效率，擴大了顯示面板的視角范圍，降低了陰極層的面電阻，進而避免了電壓降現象的產生，提高了顯示面板的顯示均一性。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種顯示面板及其制作方法。

背景技術

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發光二極管)顯示面板由于具備自發光、不需要背光源、對比度高、色域寬、厚度薄、反應速度快和可用于柔性面板等優點，特別是頂發射的OLED顯示面板由于具有開口率高等優勢，被認為是下一代平面顯示新型技術。

但是，對于現有的頂發射的OLED顯示面板，存在一些較為嚴重的問題：存在嚴重的微腔效應和全反射作用，使得OLED顯示面板的光取出效率和視角范圍受到較大的影響；陰極層的面電阻較大，存在電壓降的現象，使得OLED顯示面板顯示不均一；且上述問題均對顯示面板的顯示效果產生了較大的影響。

發明內容

本發明實施例提供一種顯示面板及其制作方法，能夠解決現有技術中，由于頂發射的OLED顯示面板存在嚴重的微腔效應和全反射作用，以及具有面電阻較大的陰極層，進而影響顯示面板的顯示效果的技術問題。

為解決上述技術問題，本發明實施例提供一種顯示面板，包括：

襯底層，包括基板以及設置于所述基板上的薄膜晶體管器件層；

發光功能層，設置于所述襯底層上，所述發光功能層包括發光器件層、像素定義層以及位于所述像素定義層上的陰極層，所述像素定義層具有多個像素開口，且所述多個像素開口中的每一者內皆設置有所述發光器件層，所述陰極層至少連續地覆蓋所述多個像素開口并與所述發光器件層搭接；

光提取薄膜，對應所述多個像素開口設置于所述陰極層上；以及

導通層，設置于所述陰極層上，且所述導通層在所述像素定義層上的投影與所述多個像素開口相錯開。

在本發明的一種實施例中，所述光提取薄膜的材料包括親水性納米顆粒，且所述光提取薄膜內具有有序的微納米結構，其中所述親水性納米顆粒形成的晶粒尺寸介于10nm至100nm之間。

在本發明的一種實施例中，所述光提取薄膜的材料包括具有親水性的金屬氧化物納米顆粒。

在本發明的一種實施例中，所述導通層的材料包括疏水性導電材料，且所述疏水性導電材料包括納米銀或石墨烯。

根據本發明的上述目的，提供一種顯示面板的制作方法，所述方法包括以下步驟：

S10、制備薄膜晶體管器件層于基板上，以形成襯底層；

S20、制備發光功能層于所述襯底層上，且所述發光功能層包括發光器件層、像素定義層以及位于所述像素定義層上的陰極層，所述像素定義層具有多個像素開口，且所述多個像素開口中的每一者內皆設置有所述發光器件層，所述陰極層至少連續地覆蓋所述多個像素開口并與所述發光器件層搭接；

S30、對應所述多個像素開口制備光提取薄膜于所述陰極層上；以及

S40、制備導通層于所述陰極層上，且所述導通層在所述像素定義層上的投影與所述多個像素開口相錯開。

在本發明的一種實施例中，所述步驟S30包括：