[發(fā)明專利]一種多面尺寸測量方法

在審

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• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN112275657A
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂波
• 申請（專利權(quán)）人: 珠海市科迪電子科技有限公司
• 主分類號: B07C5/10
• 分類號: B07C5/10;B07C5/36
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 盧澤明

1.一種多面尺寸測量方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟S1：將裝有被測產(chǎn)品的第一tray盤放置在上料機(jī)上，控制第一提取裝置提取至少一個被測產(chǎn)品、并將被測產(chǎn)品放置于第一測試平臺，控制第一測量裝置對被測產(chǎn)品的上表面進(jìn)行外形尺寸測量；

步驟S2：控制第一提取裝置將上表面測量合格的被測產(chǎn)品放回第一tray盤上，控制第一tray盤輸向第二提取裝置；

步驟S3：控制第二提取裝置提取被測產(chǎn)品、并將被測產(chǎn)品放置于第二測試平臺，控制第二測量裝置對被測產(chǎn)品的側(cè)面進(jìn)行外形尺寸測量；

步驟S4：控制第三提取裝置將側(cè)面測量合格的被測產(chǎn)品放在良品tray盤上，控制良品tray盤輸向下料機(jī)。

2.如權(quán)利要求1所述的一種多面尺寸測量方法，其特征在于，在步驟S3中：

第二提取裝置提取被測產(chǎn)品后，先經(jīng)過第三測量裝置，所述第三測量裝置被配置為對被測產(chǎn)品的下表面進(jìn)行外形尺寸測量，下表面測量后再將被測產(chǎn)品放置在第二測試平臺。

3.如權(quán)利要求2所述的一種多面尺寸測量方法，其特征在于，在步驟S1中，第一提取裝置提取被測產(chǎn)品后，將被測產(chǎn)品按順時針旋轉(zhuǎn)90°后再放置在第一測試平臺上。

4.如權(quán)利要求3所述的一種多面尺寸測量方法，其特征在于，在步驟S2中，所述第一測量裝置逐個對被測產(chǎn)品的上表面進(jìn)行外形尺寸測量，將每個被測產(chǎn)品的測量結(jié)果發(fā)送至控制器，控制器控制與被測產(chǎn)品對應(yīng)的第一提取裝置將上表面測量合格的被測產(chǎn)品放回第一tray盤上、將上表面測量不合格的被測產(chǎn)品放至第二tray盤上。

5.如權(quán)利要求4所述的一種多面尺寸測量方法，其特征在于，在步驟S3中，控制所述第二測試平臺帶動被測產(chǎn)品進(jìn)行沿同一順時針或者逆時針方向的多次90°旋轉(zhuǎn)，對于被測產(chǎn)品的每個側(cè)面，通過第二測量裝置對其進(jìn)行外形尺寸測量。

6.如權(quán)利要求5所述的一種多面尺寸測量方法，其特征在于，在步驟S4中，所述第二測量裝置將被測產(chǎn)品的側(cè)面測量結(jié)果發(fā)送至控制器，控制器控制與被測產(chǎn)品對應(yīng)的第三提取裝置將側(cè)面測量合格的被測產(chǎn)品放在良品tray盤上、將側(cè)面測量不合格的被測產(chǎn)品放在不良品tray盤上。

7.如權(quán)利要求6所述的一種多面尺寸測量方法，其特征在于，在步驟S2之后還包括步驟S201：將空的第一tray盤輸送至所述第三提取裝置的下料區(qū)，所述下料區(qū)分為良品下料區(qū)和不良品下料區(qū)，第三提取裝置將側(cè)面測量合格的被測產(chǎn)品放在良品下料區(qū)上的第一tray盤、即良品tray盤上，第三提取裝置將側(cè)面測量不合格的被測產(chǎn)品放在不良品下料區(qū)上的第一tray盤、即不良品tray盤上。

8.如權(quán)利要求2至7任一項(xiàng)所述的一種多面尺寸測量方法，其特征在于，所述第一測量裝置依次對放置在第一測試平臺上的被測產(chǎn)品上表面進(jìn)行外形尺寸測量。

9.如權(quán)利要求8所述的一種多面尺寸測量方法，其特征在于，所述第三測量裝置依次對第二提取裝置所提取的被測產(chǎn)品下表面進(jìn)行外形尺寸測量。

10.如權(quán)利要求9所述的一種多面尺寸測量方法，其特征在于，所述第二測量裝置同時對放置在第二測試平臺上的被測產(chǎn)品側(cè)面進(jìn)行外形尺寸測量。