[發明專利]圖像去霧方法、裝置、設備和計算機可讀介質

有效

• 申請號: 202011083479.1
• 申請日: 2020-10-12
• 公開（公告）號: CN112215789B
• 公開（公告）日: 2022-10-25
• 發明（設計）人: 鄧啟力
• 申請（專利權）人: 北京字節跳動網絡技術有限公司
• 主分類號: G06T5/50
• 分類號: G06T5/50;G06T5/40;G06T5/00;G06N3/04;G06V10/44;G06V10/82
• 代理公司: 北京唯智勤實知識產權代理事務所(普通合伙) 11557
• 代理人: 陳佳

1.一種圖像去霧方法，包括：

對原始圖像進行兩次特征提取，分別得到去霧特征圖和原始圖像特征圖；

對所述去霧特征圖進行標準化處理，得到標準化去霧特征圖；

基于所述原始圖像特征圖，生成原始圖像局部特征矩陣和原始圖像全局特征矩陣；

基于所述標準化去霧特征圖、所述原始圖像局部特征矩陣和所述原始圖像全局特征矩陣，生成去霧圖像；

其中，所述對所述去霧特征圖進行標準化處理，得到標準化去霧特征圖，包括：

對所述去霧特征圖進行批量標準化，得到批量標準化去霧特征圖；

對所述去霧特征圖進行實例標準化，得到實例標準化去霧特征圖；

將所述批量標準化去霧特征圖和所述實例標準化去霧特征圖確定為所述標準化去霧特征圖。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述基于標準化去霧特征圖、局部去霧特征圖和全局去霧特征圖，生成去霧圖像，包括：

基于所述標準化去霧特征圖、所述原始圖像局部特征矩陣和所述原始圖像全局特征矩陣，生成目標去霧特征圖；

基于所述目標去霧特征圖，生成去霧圖像。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述基于所述標準化去霧特征圖、所述局部去霧特征圖和全局去霧特征圖，生成目標去霧特征圖，包括：

基于所述批量標準化去霧特征圖和所述原始圖像局部特征矩陣，生成局部去霧特征圖；

基于所述批量標準化去霧特征圖和所述原始圖像全局特征矩陣，生成全局去霧特征圖；

基于所述實例標準化去霧特征圖、所述局部去霧特征圖和所述全局去霧特征圖，生成所述目標去霧特征圖。

4.一種圖像去霧裝置，包括：

特征提取單元，被配置成對原始圖像進行兩次特征提取，分別得到去霧特征圖和原始圖像特征圖；

處理單元，被配置成對所述去霧特征圖進行標準化處理，得到標準化去霧特征圖；

第一生成單元，被配置成基于所述原始圖像特征圖，生成原始圖像局部特征矩陣和原始圖像全局特征矩陣；

第二生成單元，被配置成基于所述標準化去霧特征圖、所述原始圖像局部特征矩陣和所述原始圖像全局特征矩陣，生成去霧圖像；

其中，所述處理單元進一步被配置成：

對所述去霧特征圖進行批量標準化，得到批量標準化去霧特征圖；

對所述去霧特征圖進行實例標準化，得到實例標準化去霧特征圖；

將所述批量標準化去霧特征圖和所述實例標準化去霧特征圖確定為所述標準化去霧特征圖。

5.根據權利要求4所述的裝置，其中，所述第二生成單元進一步被配置成：

基于所述標準化去霧特征圖、所述原始圖像局部特征矩陣和所述原始圖像全局特征矩陣，生成目標去霧特征圖；

基于所述目標去霧特征圖，生成去霧圖像。

6.根據權利要求5所述的裝置，其中，所述第二生成單元進一步被配置成：

基于所述批量標準化去霧特征圖和所述原始圖像局部特征矩陣，生成局部去霧特征圖；

基于所述批量標準化去霧特征圖和所述原始圖像全局特征矩陣，生成全局去霧特征圖；

基于所述實例標準化去霧特征圖、所述局部去霧特征圖和所述全局去霧特征圖，生成所述目標去霧特征圖；

基于所述目標去霧特征圖，生成去霧圖像。

7.一種電子設備，包括：

一個或多個處理器；

存儲裝置，其上存儲有一個或多個程序，

當所述一個或多個程序被所述一個或多個處理器執行，使得所述一個或多個處理器實現如權利要求1-3中任一所述的方法。

8.一種計算機可讀介質，其上存儲有計算機程序，其中，所述程序被處理器執行時實現如權利要求1-3中任一所述的方法。