[發明專利]一種判斷管式PECVD爐管內漏和外漏的方法在審
| 申請號: | 202011081416.2 | 申請日: | 2020-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN112323047A | 公開(公告)日: | 2021-02-05 |
| 發明(設計)人: | 張云鵬;王玉;趙科巍;郭鵬;楊飛飛;秦鵬 | 申請(專利權)人: | 山西潞安太陽能科技有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50;C23C16/52 |
| 代理公司: | 太原市科瑞達專利代理有限公司 14101 | 代理人: | 李富元 |
| 地址: | 046000 山*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 判斷 pecvd 爐管 方法 | ||
本發明涉及太陽能電池生產領域。一種判斷管式PECVD爐管內漏和外漏的方法,本發明通過關閉部分閥門對PECVD爐管1進行保壓測試,判斷PECVD爐管是否存在泄漏,以及在存在泄漏時,存在內部泄漏還是外部泄漏,以及具體在哪個位置存在泄漏。本發明可以簡單準確的判斷管式PECVD爐管真空失敗的內漏方法,縮短了異常處理的時間,確保了車間的正常生產,提高了備品備件的使用壽命,節約了車間的備件成本。
技術領域
本發明涉及太陽能電池生產領域。
背景技術
光伏太陽能管式PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)工藝是在真空,低壓的環境下(1800mTorr左右)進行的。如果滿足不了此條件,工藝將無法運行。因此,爐管的密封性非常的重要。在生產過程中,經常會出現爐管密封不好,真空失敗的報警,導致設備無法正常運行。引起真空失敗的原因有很多種,包括有內漏和外漏。內漏是整個真空系統內部有漏點,外漏是外界與真空系統之間有漏點。判斷和解決爐管真空失敗的內漏點和外漏點,一般耗時較長,會影響車間的正常生產。如排查不當,會影響備品備件的使用壽命,增加車間的備件成本。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是:如何判斷PECVD爐管是否存在泄漏,以及在存在泄漏時,存在內部泄漏還是外部泄漏,以及具體在哪個位置存在泄漏。
本發明所采用的技術方案是:一種判斷管式PECVD爐管內漏和外漏的方法, PECVD爐管1通過主閥2連接真空泵3,笑氣順序通過第一氣動閥8、第一質量流量計9、第一截止閥18連接PECVD爐管1,氨氣順序通過第二氣動閥7、第二質量流量計10、第二截止閥17連接PECVD爐管1,硅烷順序通過第三氣動閥6、第三質量流量計11、第三截止閥16連接PECVD爐管1,氮氣順序通過第四氣動閥4、第四質量流量計13、第四截止閥14連接PECVD爐管1,氮氣順序通過第四氣動閥4、第五截止閥5、第三質量流量計11、第三截止閥16連接PECVD爐管1,氮氣順序通過第四氣動閥4、第六截止閥12連接PECVD爐管1,真空泵3順序通過第七截止閥15、第三截止閥16連接PECVD爐管1,判斷管式PECVD爐管內漏和外漏的方法按如下步驟進行
步驟一、關閉所有氣動閥、關閉第七截止閥15,開啟主閥2、開啟第七截止閥15外其它所有截止閥,開啟真空泵將PECVD爐管1內部壓力抽至底壓P0;
步驟二、在步驟一的基礎上,關閉主閥2、關閉真空泵3,對PECVD爐管1進行保壓測試,如PECVD爐管1壓力每秒上升小于2mTorr,則PECVD爐管1漏率正常,即PECVD爐管1無泄露,如PECVD爐管1壓力每秒上升大于等于2mTorr,則PECVD爐管1有泄露,即存在內漏或/和外漏;
步驟三、如果存在內漏或/和外漏,在步驟二的基礎上,關閉所有截止閥,開啟主閥2,開啟真空泵將PECVD爐管1內部壓力抽至底壓P0;
步驟四、在步驟三的基礎上,關閉主閥2、關閉真空泵3,對PECVD爐管1進行保壓測試,如PECVD爐管1壓力每秒上升大于等于2mTorr,則PECVD爐管1為外漏,如PECVD爐管1壓力每秒上升小于2mTorr,則PECVD爐管1為內漏;
步驟五、在步驟四的基礎上,如果為外漏,則更換第一氣動閥8后,安步驟二進行對PECVD爐管1進行保壓測試,PECVD爐管1無泄露說明原來的第一氣動閥8有問題,如果繼續有PECVD爐管1有泄露;則更換第二氣動閥7,安步驟二進行對PECVD爐管1進行保壓測試,PECVD爐管1無泄露說明原來的第二氣動閥7有問題,如果繼續有PECVD爐管1有泄露,則更換第三氣動閥6,安步驟二進行對PECVD爐管1進行保壓測試,PECVD爐管1無泄露說明原來的第三氣動閥6有問題,如果繼續有PECVD爐管1有泄露,則更換第四氣動閥4,安步驟二進行對PECVD爐管1進行保壓測試,PECVD爐管1無泄露說明原來的第三氣動閥6有問題,如果繼續有PECVD爐管1有泄露說明存在管道裂縫,需要檢修管道;
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





