[發(fā)明專利]一種基于微納隔離結(jié)構(gòu)的高密度低串?dāng)_波導(dǎo)陣列有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011078336.1 | 申請日: | 2020-10-10 |
| 公開(公告)號: | CN112180506B | 公開(公告)日: | 2022-09-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馮吉軍;劉海鵬;孫福領(lǐng);曾和平 | 申請(專利權(quán))人: | 上海理工大學(xué) |
| 主分類號: | G02B6/124 | 分類號: | G02B6/124 |
| 代理公司: | 上海邦德專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31312 | 代理人: | 梁劍 |
| 地址: | 200093 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 隔離 結(jié)構(gòu) 高密度 低串?dāng)_ 波導(dǎo) 陣列 | ||
本發(fā)明提出一種基于微納隔離結(jié)構(gòu)的高密度低串?dāng)_波導(dǎo)陣列,包括基底以及基于硅波導(dǎo)的芯層;芯層包括兩個相同結(jié)構(gòu)參數(shù)的硅寬波導(dǎo)和兩個硅周期光柵;兩個硅寬波導(dǎo)布置于基底上,相鄰的兩個硅寬波導(dǎo)之間設(shè)有兩個不同參數(shù)結(jié)構(gòu)的硅周期光柵。通過中間光柵結(jié)構(gòu),使得不同波導(dǎo)之間光的相位失配,達(dá)到抑制耦合的作用,從而提出一種結(jié)構(gòu)緊湊、透射率高且串?dāng)_低的波導(dǎo)陣列。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及芯片技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基于微納隔離結(jié)構(gòu)的高密度低串?dāng)_波導(dǎo)陣列。
背景技術(shù)
隨著大數(shù)據(jù)時代的到來,現(xiàn)代光子技術(shù)的發(fā)展對器件的集成性、片上器件密度、功能、性能等要求越來越高。同時,絕緣體上硅(SOI)材料作為光集成研究的熱點(diǎn)材料具有導(dǎo)光特性好,對光的限制作用強(qiáng)并且與標(biāo)準(zhǔn)的互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)工藝完全兼容等優(yōu)點(diǎn)而被選用。
芯片規(guī)模的光學(xué)相控陣可以實(shí)現(xiàn)小型光束控制和激光雷達(dá),用于無人飛行器、精密機(jī)器人和自由空間光通信。由于這些應(yīng)用需要廣角光束控制以及輸出光束的高光功率,自然的設(shè)計選擇是將陣列發(fā)射器間隔在半波長間距,這在射頻相控陣中很常見。然而,與射頻相控陣不同,光學(xué)相控陣受到視場(即角度控制)和波束形成效率(即輸出光束中的光功率)之間的權(quán)衡限制。這種折衷之所以存在是因?yàn)楣鈱W(xué)相控陣依靠波導(dǎo)作為發(fā)射源,當(dāng)放置在距離其模式尺寸很近的地方時,會受到強(qiáng)烈的串?dāng)_。激光雷達(dá)中的大部分光學(xué)天線是直接蝕刻在陣列波導(dǎo)上的二階光柵,這使得發(fā)射效率非常低,而且由于旁瓣和光柵瓣的存在,使得大部分光能不能充分利用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提出一種結(jié)構(gòu)緊湊、透射率高且串?dāng)_低的波導(dǎo)陣列。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明提出一種基于微納隔離結(jié)構(gòu)的高密度低串?dāng)_波導(dǎo)陣列,包括基底以及基于硅波導(dǎo)的芯層;
所述芯層包括多個相同結(jié)構(gòu)參數(shù)的硅寬波導(dǎo)和多個硅周期光柵;多個所述硅寬波導(dǎo)等間距布置于所述基底上,相鄰的兩個所述硅寬波導(dǎo)之間設(shè)有兩個不同參數(shù)結(jié)構(gòu)的硅周期光柵。
優(yōu)選的,基于所述基層的表面還布置一層二氧化硅包層,所述二氧化硅包層包裹住所述芯層。
優(yōu)選的,所述基底包括硅基襯底和二氧化硅緩沖層,所述二氧化硅緩沖層設(shè)于所述硅基襯底表面,所述芯層設(shè)于所述二氧化硅緩沖層表面。
優(yōu)選的,所述硅寬波導(dǎo)由600μm-1mm長的直波導(dǎo)組成,寬度為0.5μm以基本保持單模條件,相鄰的所述硅寬波導(dǎo)之間的間隙為1μm。
優(yōu)選的,相鄰的所述硅寬波導(dǎo)之間的兩個所述硅周期光柵,其中一個所述硅周期光柵的周期為0.3~0.4μm,占空比為0.3~0.4,寬度為0.12μm,光柵數(shù)目為1500~2000;
另一個所述硅周期光柵的周期為0.3~0.4μm,占空比為0.5~0.8,寬度為0.12μm,光柵數(shù)目為1500~2000;
兩個所述硅周期光柵之間間距為0.1μm;位于左側(cè)的所述硅周期光柵距離左側(cè)所述硅寬波導(dǎo)間距為0.1μm,位于右側(cè)的所述硅周期光柵距離右側(cè)所述硅寬波導(dǎo)間距為0.06μm。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)勢之處在于:
1、本發(fā)明的波導(dǎo)陣列基于SOI制作,可與CMOS技術(shù)結(jié)合,工藝成熟,尺寸小,結(jié)構(gòu)緊湊且加工簡單,制作容差大,產(chǎn)品良率高。
2、本發(fā)明的器件可在毫米級傳輸長度上,波導(dǎo)間距達(dá)到1μm范圍,也有抑制串?dāng)_的功能。這避免了在毫米級傳輸長度上,密集輸出波導(dǎo)之間的耦合現(xiàn)象,對于實(shí)際應(yīng)用有意義。
3、本發(fā)明的波導(dǎo)陣列可實(shí)現(xiàn)在1550nm光波段降低波導(dǎo)間串?dāng)_,實(shí)現(xiàn)高透過率,低插入損耗,在光相控陣領(lǐng)域具有重要的實(shí)用價值;并且本發(fā)明在波長為1520-1600nm范圍內(nèi),依舊保持較低的插入損耗和串?dāng)_,帶寬達(dá)到80nm。
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