[發明專利]像素結構在審
| 申請號: | 202011072237.2 | 申請日: | 2020-10-09 |
| 公開(公告)號: | CN112259577A | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發明(設計)人: | 周思思 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 官建紅 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 像素 結構 | ||
1.一種像素結構,其特征在于,包括襯底、以及設置在所述襯底上方的緩沖層、有源層、柵絕緣層、柵極層、層間絕緣層、源漏極層、第一平坦層、以及數據線,其中,所述數據線與所述源漏極層異面設置,且所述數據線所在膜層遠離所述柵極層和所述源漏極層。
2.如權利要求1所述的像素結構,其特征在于,所述像素結構還包括掃描線,所述掃描線與所述柵極層同層設置,柵極電位點與所述源漏極層同層設置,其中,所述第一平坦層設置在所述源漏極層上,所述數據線設置在所述第一平坦層上方。
3.如權利要求2所述的像素結構,其特征在于,電源金屬走線包括對應設置的第一金屬走線和第二金屬走線,所述第一金屬走線與所述源漏極層同層設置,所述第二金屬走線設置在所述第一平坦層上,所述第二金屬走線與所述第一金屬走線通過過孔以并聯的方式電連接。
4.如權利要求3所述的像素結構,其特征在于,所述數據線與所述第二金屬走線同層設置,所述數據線上設置有第二平坦層。
5.如權利要求4所述的像素結構,其特征在于,所述數據線與所述第二金屬走線絕緣設置。
6.如權利要求4所述的像素結構,其特征在于,所述第一平坦層的厚度大于所述第二平坦層的厚度。
7.如權利要求6所述的像素結構,其特征在于,所述第二平坦層厚度的范圍為所述第一平坦層厚度的三分之一至二分之一。
8.如權利要求1所述的像素結構,其特征在于,所述第一平坦層上設置有陽極,所述數據線與所述陽極同層且絕緣設置。
9.如權利要求1所述的像素結構,其特征在于,所述第一平坦層上設置有陽極,所述陽極上方設置有陰極,所述數據線與所述陰極同層且絕緣設置。
10.如權利要求1所述的像素結構,其特征在于,所述數據線與所述掃描線/柵極電位點之間的連線與襯底的銳角夾角范圍為15度至45度。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢華星光電半導體顯示技術有限公司,未經武漢華星光電半導體顯示技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011072237.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





