[發明專利]指紋圖像校準方法、裝置、電子設備及存儲介質有效
| 申請號: | 202011069292.6 | 申請日: | 2020-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN112417951B | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發明(設計)人: | 鄒佳辰;陳承 | 申請(專利權)人: | 北京極豪科技有限公司 |
| 主分類號: | G06V40/12 | 分類號: | G06V40/12 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 蔣姍 |
| 地址: | 102200 北京市昌平區沙*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 指紋 圖像 校準 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
本申請提供了一種指紋圖像校準方法、裝置、電子設備及存儲介質,該方法包括:獲取原始指紋圖像的第一噪聲頻率,所述原始指紋圖像為指紋傳感器采集的待校準的圖像;獲取原始零偏圖像的第二噪聲頻率;根據所述第一噪聲頻率以及所述第二噪聲頻率獲取所述原始指紋圖像相對于所述原始零偏圖像的縮放系數;根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像以及所述原始零偏圖像調整為具有相同物距的第一指紋圖像以及第一零偏圖像;根據所述第一零偏圖像對第一指紋圖像進行校準,得到目標指紋圖像,從而實現指紋圖像的校準。本申請可以降低由于物距變化導致的校準誤差,可以提高校準的準確性,進而提高指紋識別的準確性。
技術領域
本申請涉及指紋識別技術領域,具體而言,涉及一種指紋圖像校準方法、裝置、電子設備及存儲介質。
背景技術
現在的光學屏下指紋識別技術普遍采用“小孔成像”原理,成像大小與物距相關。在實際使用時,受到壓力等外界因素影響,很容易導致物距(指紋識別模組中的光學透鏡層與手指之間的距離)發生變化,影響成像大小,導致識別效果不佳。
針對上述問題,目前尚未有有效的技術解決方案。
發明內容
本申請實施例的目的在于提供一種指紋圖像校準方法、裝置、電子設備及存儲介質,降低由于物距變化導致的校準誤差,可以提高校準的準確性,進而提高指紋識別的準確性。
第一方面,本申請實施例提供了一種指紋圖像校準方法,所述方法包括:
獲取原始指紋圖像的第一噪聲頻率,所述原始指紋圖像為指紋傳感器采集的待校準的圖像;
獲取原始零偏圖像的第二噪聲頻率,所述原始零偏圖像是指紋傳感器在參考物距下生成圖像;
根據所述第一噪聲頻率以及所述第二噪聲頻率獲取所述原始指紋圖像相對于所述原始零偏圖像的縮放系數;
根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像以及所述原始零偏圖像調整為具有相同物距的第一指紋圖像以及第一零偏圖像;
根據所述第一零偏圖像對第一指紋圖像進行校準,得到目標指紋圖像。
可選地,在本申請實施例所述的指紋圖像校準方法中,所述根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像以及所述原始零偏圖像調整為具有相同物距的第一指紋圖像以及第一零偏圖像,包括:
根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像調整為與所述原始零偏圖像具有相同物距的第一指紋圖像,并將所述原始零偏圖像設置為第一零偏圖像。
可選地,在本申請實施例所述的指紋圖像校準方法中,所述根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像調整為與所述原始零偏圖像具有相同物距的第一指紋圖像,包括:
根據所述縮放系數生成對應的仿射變換矩陣;
根據所述仿射變換矩陣對所述原始指紋圖像進行仿射變換,得到與所述原始零偏圖像的具有相同物距的第一指紋圖像。
可選地,在本申請實施例所述的指紋圖像校準方法中,所述根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像以及所述原始零偏圖像調整為具有相同物距的第一指紋圖像以及第一零偏圖像,包括:
根據所述縮放系數將所述原始零偏圖像調整為與所述原始指紋圖像具有相同物距的第一零偏紋圖像,并將所述原始指紋圖像設置為第一指紋圖像。
可選地,在本申請實施例所述的指紋圖像校準方法中,所述根據所述第一噪聲頻率以及所述第二噪聲頻率獲取所述原始指紋圖像相對于所述原始零偏圖像的縮放系數,包括:
將所述第一噪聲頻率除以所述第二噪聲頻率得到所述原始指紋圖像相對于所述原始零偏圖像的縮放系數。
可選地,在本申請實施例所述的指紋圖像校準方法中,所述根據所述第一零偏圖像對所述第一指紋圖像進行校準,得到目標指紋圖像,包括:
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