[發明專利]指紋圖像校準方法、裝置、電子設備及存儲介質有效
| 申請號: | 202011069292.6 | 申請日: | 2020-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN112417951B | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發明(設計)人: | 鄒佳辰;陳承 | 申請(專利權)人: | 北京極豪科技有限公司 |
| 主分類號: | G06V40/12 | 分類號: | G06V40/12 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 蔣姍 |
| 地址: | 102200 北京市昌平區沙*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 指紋 圖像 校準 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種指紋圖像校準方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取原始指紋圖像的第一噪聲頻率,所述原始指紋圖像為指紋傳感器采集的待校準的圖像;
獲取原始零偏圖像的第二噪聲頻率,所述原始零偏圖像為所述指紋傳感器在參考物距下生成的圖像;
根據所述第一噪聲頻率以及所述第二噪聲頻率獲取所述原始指紋圖像相對于所述原始零偏圖像的縮放系數;
根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像以及所述原始零偏圖像調整為具有相同物距的第一指紋圖像以及第一零偏圖像;
根據所述第一零偏圖像對第一指紋圖像進行校準,得到目標指紋圖像。
2.根據權利要求1所述的指紋圖像校準方法,其特征在于,所述根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像以及所述原始零偏圖像調整為具有相同物距的第一指紋圖像以及第一零偏圖像,包括:
根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像調整為與所述原始零偏圖像具有相同物距的第一指紋圖像,并將所述原始零偏圖像設置為第一零偏圖像。
3.根據權利要求2所述的指紋圖像校準方法,其特征在于,所述根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像調整為與所述原始零偏圖像具有相同物距的第一指紋圖像,包括:
根據所述縮放系數生成對應的仿射變換矩陣;
根據所述仿射變換矩陣對所述原始指紋圖像進行仿射變換,得到與所述原始零偏圖像的具有相同物距的第一指紋圖像。
4.根據權利要求1所述的指紋圖像校準方法,其特征在于,所述根據所述縮放系數將所述原始指紋圖像以及所述原始零偏圖像調整為具有相同物距的第一指紋圖像以及第一零偏圖像,包括:
根據所述縮放系數將所述原始零偏圖像調整為與所述原始指紋圖像具有相同物距的第一零偏紋圖像,并將所述原始指紋圖像設置為第一指紋圖像。
5.根據權利要求1-4任一項所述的指紋圖像校準方法,其特征在于,所述根據所述第一噪聲頻率以及所述第二噪聲頻率獲取所述原始指紋圖像相對于所述原始零偏圖像的縮放系數,包括:
將所述第一噪聲頻率除以所述第二噪聲頻率得到所述原始指紋圖像相對于所述原始零偏圖像的縮放系數。
6.根據權利要求1-4任一項所述的指紋圖像校準方法,其特征在于,所述根據所述第一零偏圖像對所述第一指紋圖像進行校準,得到目標指紋圖像,包括:
獲取所述第一指紋圖像的第一信號強度均值;
獲取所述第一零偏圖像的第二信號強度均值;
根據所述第一信號強度均值以及所述第二信號強度均值對所述第一指紋圖像進行強度均值化處理,得到第二指紋圖像;
根據所述第一零偏圖像對所述第二指紋圖像進行校準,得到目標指紋圖像。
7.根據權利要求6所述的指紋圖像校準方法,其特征在于,所述根據所述第一信號強度均值以及所述第二信號強度均值對所述第一指紋圖像進行強度均值化處理,得到第二指紋圖像,包括:
將第一指紋圖像的各像素點的像素值乘以強化系數從而得到第二指紋圖像,其中,所述強化系數為所述第二信號強度均值與所述第一信號強度均值的比值。
8.根據權利要求1-4任一項所述的指紋圖像校準方法,其特征在于,獲取原始圖像的噪聲頻率,包括:
對原始圖像進行離散傅里葉變換,得到頻譜圖;
根據所述頻譜圖計算所述原始圖像的噪聲頻率;
其中,當所述原始圖像為原始指紋圖像時,所述噪聲頻率為第一噪聲頻率;當所述原始圖像為原始零偏圖像時,所述噪聲頻率為第二噪聲頻率。
9.根據權利要求8所述的指紋圖像校準方法,其特征在于,所述根據所述頻譜圖計算所述原始圖像的噪聲頻率,包括:
計算所述頻譜圖上的多個像素點相對于所述頻譜圖的參照點之間的曼哈頓距離;
計算具有相同曼哈頓距離的像素點的曼哈頓距離總和,得到多個曼哈頓距離總和,每一所述曼哈頓距離總和對應一種曼哈頓距離的像素點;
根據所述多個曼哈頓距離總和中最大的曼哈頓距離總和計算所述原始圖像的第一噪聲頻率。
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