[發(fā)明專利]一種半導體晶片表面真空鍍膜機在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011067717.X | 申請日: | 2020-10-07 |
| 公開(公告)號: | CN112159958A | 公開(公告)日: | 2021-01-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊保長 | 申請(專利權)人: | 楊保長 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/56;C23C14/54 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610000 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 半導體 晶片 表面 真空鍍膜 | ||
本發(fā)明公開了一種半導體晶片表面真空鍍膜機,其結構包括冷卻裝置、真空泵、抽氣管、真空腔、輔助加熱片、蒸發(fā)源、卷輥、電機,本發(fā)明改進后進行使用時,工作人員通過水管將冷卻水導送到儲水槽內(nèi)部,冷卻水通過連通管導送導入件內(nèi)部,導入件將冷卻水穩(wěn)定的輸送到接水槽內(nèi)部,接水槽內(nèi)部的冷卻水通過接管導送到分流件內(nèi)部,通過分流條將導水槽分成三個部分,三個導水槽內(nèi)部的冷卻水可以通過互通孔互相流通,使得冷卻水可以快速的通過出口導出,可以將冷卻水穩(wěn)定的送出口導流到的薄膜上,使得分流件內(nèi)部的冷卻水均勻的噴灑在薄膜上,防止薄膜表面因高溫出現(xiàn)褶皺,保證薄膜表面的平整,提高薄膜的鍍膜效果。
技術領域
本發(fā)明涉及半導體領域,具體涉及到一種半導體晶片表面真空鍍膜機。
背景技術
鍍膜機又稱真空鍍膜機,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種,需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材,在進行蒸鍍時,通過水冷輥對薄膜進行牽拉冷卻,有效防止薄膜出現(xiàn)形變褶皺,在對蒸鍍材料進行鍍膜時,需要改進的地方:
在對蒸鍍材料進行鍍膜時,將需要鍍膜的薄膜卷放在鍍膜機的安裝座處,通過導輥將薄膜從薄膜卷上拉出,通過蒸發(fā)源對薄膜進行蒸鍍處理,在蒸鍍過程中,薄膜的耐熱溫度有限,若是薄膜在高溫下進行蒸鍍會出現(xiàn)收縮變形,使得薄膜表面因高溫出現(xiàn)褶皺,導致薄膜的表面不平整,影響薄膜的鍍膜處理,不利于薄膜后續(xù)的收卷處理,降低蒸鍍材料的鍍膜效果。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術存在的不足,本發(fā)明目的是提供一種半導體晶片表面真空鍍膜機。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明是通過如下的技術方案來實現(xiàn):一種半導體晶片表面真空鍍膜機,其結構包括冷卻裝置、真空泵、抽氣管、真空腔、輔助加熱片、蒸發(fā)源、卷輥、電機,所述冷卻裝置安裝在真空腔內(nèi)部,所述真空腔頂部設有蒸發(fā)源,所述蒸發(fā)源上設有輔助加熱片,所述輔助加熱片貫穿真空腔與蒸發(fā)源相連通,所述蒸發(fā)源設在真空腔正上方,所述冷卻裝置與蒸發(fā)源設在同一平面上,所述冷卻裝置安裝在真空腔內(nèi)部,所述冷卻裝置底部安裝有卷輥,所述卷輥與冷卻裝置通過真空腔連接,所述真空腔兩側分別設有真空泵和電機,所述真空泵上設有抽氣管,所述抽氣管垂直插嵌在真空泵上,遠離真空泵的一端貫穿連接在真空腔內(nèi)部,所述真空腔與電機通過電線進行電性連接。
作為發(fā)明內(nèi)容的進一步改進,所述冷卻裝置包括有固定桿、卡座、薄膜、展平槽、導輥、支撐板,所述固定桿頂部設有卡座,所述卡座平行卡接在固定桿頂部,所述卡座兩側設有導輥,所述導輥遠離卡座的一端與展平槽相接,所述展平槽內(nèi)部連接有薄膜,所述薄膜平行貫穿在展平槽內(nèi)部,所述薄膜兩端通過展平槽與導輥相接,所述固定桿安裝在真空腔內(nèi)部,所述固定桿底部安裝有卷輥,所述展平槽頂部正對著蒸發(fā)源,所述
作為發(fā)明內(nèi)容的進一步改進,所述展平槽包括有頂壓桿、撐塊、定位塊、冷卻組件,所述頂壓桿安裝在定位塊上,所述頂壓桿頂部設有冷卻組件,所述冷卻組件平行卡接在頂壓桿上,所述冷卻組件設在撐塊中間位置上,所述冷卻組件與薄膜相接觸,所述冷卻組件通過薄膜與導輥相接。
作為發(fā)明內(nèi)容的進一步改進,所述冷卻組件包括有卡板、轉輪、連通管、水冷輥、導流盤,所述卡板頂部安裝有水冷輥,所述水冷輥平行嵌合在卡板上,所述卡板等距環(huán)形扣接在轉輪上,所述轉輪內(nèi)部中間位置設有導流盤,所述導流盤與轉輪之間通過連通管連通,所述連通管一端貫穿連接在導流盤上,遠離導流盤的一端與水冷輥相連通,所述轉輪外部與撐塊相接,所述轉輪與頂壓桿相吻合,所述水冷輥與薄膜相接觸,所述水冷輥通過薄膜與導輥相接。
作為發(fā)明內(nèi)容的進一步改進,所述導流盤包括有冷凝管、循環(huán)導管、分水筒、儲水槽,所述冷凝管與循環(huán)導管等量環(huán)形安裝在分水筒內(nèi)部,所述分水筒內(nèi)部中間設有儲水槽,所述儲水槽與冷凝管和循環(huán)導管相連通,所述分水筒安裝在轉輪內(nèi)部中間,所述儲水槽通過分水筒與連通管相連通。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





