[發(fā)明專(zhuān)利]設(shè)計(jì)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011062989.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114330181A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 翁坤 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G06F30/3308 | 分類(lèi)號(hào): | G06F30/3308 |
| 代理公司: | 上海晨皓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成麗杰 |
| 地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 設(shè)計(jì) 方法 | ||
1.一種設(shè)計(jì)方法,應(yīng)用于多個(gè)預(yù)設(shè)電容單元組成的電容陣列,所述預(yù)設(shè)電容單元包括多個(gè)單元電容,其特征在于,包括:
獲取所述預(yù)設(shè)電容單元的單元仿真模型,所述單元仿真模型用于表征所述預(yù)設(shè)電容單元的電容值;
基于所述電容陣列中所述預(yù)設(shè)電容單元的排布方式,以及各所述預(yù)設(shè)電容單元的單元仿真模型,獲取所述電容陣列的第一仿真模型,所述第一仿真模型用于表征所述電容陣列中各所述預(yù)設(shè)電容單元的電容值,以及所述預(yù)設(shè)電容單元的排布方式;
基于所述預(yù)設(shè)電容單元的排布方式,獲取所述預(yù)設(shè)電容單元的排布方向,并建立在相同排布方向上的一組所述預(yù)設(shè)電容單元的寄生電阻等效測(cè)試結(jié)構(gòu);
基于所述寄生電阻等效測(cè)試結(jié)構(gòu),獲得各所述預(yù)設(shè)電容單元的寄生電阻;基于各所述預(yù)設(shè)電容單元的寄生電阻以及所述第一仿真模型,建立表征所述電容陣列的第二仿真模型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述建立在相同排布方向上的一組所述預(yù)設(shè)電容單元的寄生電阻等效測(cè)試結(jié)構(gòu),包括:
建立導(dǎo)線層,所述導(dǎo)線層耦接所述預(yù)設(shè)電容單元的下電極;
建立導(dǎo)電層,所述預(yù)設(shè)電容單元設(shè)置在所述導(dǎo)電層中,且所述導(dǎo)電層將同一排布方向上的一組所述預(yù)設(shè)電容單元的上電極彼此串聯(lián)耦合;
基于所述導(dǎo)電層和所述導(dǎo)電層,以所述一組所述預(yù)設(shè)電容單元中的各所述預(yù)設(shè)電容單元的導(dǎo)線層分別作為端點(diǎn),獲得所述寄生電阻等效測(cè)試結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述電容陣列中的所述預(yù)設(shè)電容單元呈矩陣式分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,基于所述寄生電阻等效測(cè)試結(jié)構(gòu),獲得各所述預(yù)設(shè)電容單元的寄生電阻,包括:
選取其中一個(gè)所述預(yù)設(shè)電容單元作為目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元,以相鄰所述預(yù)設(shè)電容單元所處的所述導(dǎo)電層的預(yù)設(shè)界面作為分隔邊界,界定所述預(yù)設(shè)電容單元的等效導(dǎo)電層;
分別獲取所述目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元的邊界與其所在的等效導(dǎo)電層的邊界之間的最小距離;
在所述預(yù)設(shè)電容單元的排布方向上以及垂直于所述預(yù)設(shè)電容單元的排布方向上,獲取所述目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元中所述電容單元的特征量,所述特征量包括所述電容單元的數(shù)量、所述電容單元彼此間的間距以及各所述電容單元的線寬;
基于最小距離以及所述特征量,獲取所述目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元的寄生電阻。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述分別獲取所述目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元的邊緣與其所在的等效導(dǎo)電層的邊緣之間的最小距離,包括:
獲取所述目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元的邊界距離所述分隔邊界的第一側(cè)最小距離和第二側(cè)最小距離,所述第一側(cè)最小距離靠近所述端點(diǎn),所述第二側(cè)最小距離遠(yuǎn)離所述端點(diǎn);
獲取垂直于所述預(yù)設(shè)電容單元的排布方向上,所述目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元的邊界距離所述等效導(dǎo)電層兩側(cè)邊界的最小間距。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述基于最小距離以及所述特征量,獲取所述目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元的寄生電阻,包括:
基于以下公式獲取所述目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元的寄生電阻:
R=Rtcp*(L_nc*nc/2+b/2+f-d)/(L_nr*nr+a+c-e);
定義所述預(yù)設(shè)電容單元的排布方向?yàn)閄方向,Y方向垂直于所述預(yù)設(shè)電容單元的排布方向;
R為所述寄生電阻,Rtcp為所述等效導(dǎo)電層的電阻率;
b為所述第一側(cè)最小距離,f為所述第二側(cè)最小距離;
nc為X方向上所述單元電容的數(shù)量,L_nc為X方向上所述單元電容的的線寬,d為X方向上所述單元電容的間距;
nr為Y方向上所述單元電容的數(shù)量,L_nr為Y方向上所述單元電容的的線寬,e為Y方向上所述單元電容的間距;
a和c分別為Y方向上所述目標(biāo)預(yù)設(shè)電容單元的邊界距離所述電容陣列的邊界的最小間距。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)界面為相鄰所述預(yù)設(shè)電容單元所處的所述導(dǎo)電層的中線界面。
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