[發(fā)明專利]試樣成分估計(jì)方法及其裝置、學(xué)習(xí)方法以及記錄介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011061191.4
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN112782204A
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大越曉
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社島津制作所
• 主分類號: G01N23/2209
• 分類號: G01N23/2209;G01N23/223;G01N23/2252;G06N3/04;G06N3/08
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種試樣成分估計(jì)方法，包括以下步驟：

獲取由波長分散型的X射線分析裝置測定出的試樣的頻譜；

確定所述試樣的分析對象元素及與所述分析對象元素對應(yīng)的輸入波長范圍；以及

將所述試樣的頻譜中的所述輸入波長范圍的頻譜輸入到第一學(xué)習(xí)完成模型，來估計(jì)所述試樣中的所述分析對象元素的化學(xué)鍵合狀態(tài)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的試樣成分估計(jì)方法，其中，

還包括以下步驟：通過從所述輸入波長范圍的頻譜中去除高階譜線峰成分，來獲取整形頻譜，

所述估計(jì)化學(xué)鍵合狀態(tài)的步驟包括以下步驟：將所述整形頻譜輸入到所述第一學(xué)習(xí)完成模型。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的試樣成分估計(jì)方法，其中，

所述獲取整形頻譜的步驟包括以下步驟：將所述輸入波長范圍的頻譜輸入到第二學(xué)習(xí)完成模型，從所述第二學(xué)習(xí)完成模型輸出所述整形頻譜。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的試樣成分估計(jì)方法，其中，

所述第一學(xué)習(xí)完成模型是通過將已知組成的化合物種的頻譜與所述化合物種的組成的組用作教師數(shù)據(jù)的學(xué)習(xí)處理來制作的。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的試樣成分估計(jì)方法，其中，

所述第二學(xué)習(xí)完成模型是通過將如下的組用作教師數(shù)據(jù)的學(xué)習(xí)處理來制作的：包含所述高階譜線峰成分的第一頻譜與從所述第一頻譜去除了所述高階譜線峰成分的所述整形頻譜的組；以及不包含所述高階譜線峰成分的第二頻譜與不從所述第二頻譜去除所述高階譜線峰成分的所述整形頻譜的組。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的試樣成分估計(jì)方法，其中，

所述獲取整形頻譜的步驟包括以下步驟：將與所述高階譜線峰成分?jǐn)M合而得到的波形數(shù)據(jù)從所述輸入波長范圍的頻譜中減去，由此獲取所述整形頻譜。

7.一種試樣成分估計(jì)裝置，具備：

頻譜獲取部，其獲取由波長分散型的X射線分析裝置測定出的試樣的頻譜；

輸入部，其確定所述試樣的分析對象元素及與所述分析對象元素對應(yīng)的輸入波長范圍；

化合物種識別部，其將所述試樣的頻譜中的所述輸入波長范圍的頻譜輸入到第一學(xué)習(xí)完成模型，來估計(jì)所述試樣中的所述分析對象元素的化學(xué)鍵合狀態(tài)；以及

顯示部，其顯示所估計(jì)出的所述化學(xué)鍵合狀態(tài)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的試樣成分估計(jì)裝置，其中，

還具備第一學(xué)習(xí)部，所述第一學(xué)習(xí)部通過將已知組成的化合物種的頻譜與所述化合物種的組成的組用作教師數(shù)據(jù)的學(xué)習(xí)處理，來制作所述第一學(xué)習(xí)完成模型。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的試樣成分估計(jì)裝置，其中，

還具備頻譜整形部，所述頻譜整形部通過從所述輸入波長范圍的頻譜中去除高階譜線峰成分，來獲取整形頻譜，

所述化合物種識別部將所述整形頻譜輸入到所述第一學(xué)習(xí)完成模型。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的試樣成分估計(jì)裝置，其中，

所述頻譜整形部構(gòu)成為：將所述輸入波長范圍的頻譜輸入到第二學(xué)習(xí)完成模型，從所述第二學(xué)習(xí)完成模型輸出所述整形頻譜，

所述試樣成分估計(jì)裝置還具備第二學(xué)習(xí)部，所述第二學(xué)習(xí)部通過將如下的組用作教師數(shù)據(jù)的學(xué)習(xí)處理來制作所述第二學(xué)習(xí)完成模型：包含所述高階譜線峰成分的第一頻譜與從所述第一頻譜去除了所述高階譜線峰成分的所述整形頻譜的組；以及不包含所述高階譜線峰成分的第二頻譜與不從所述第二頻譜去除所述高階譜線峰成分的所述整形頻譜的組。