[發明專利]一種太陽能電池及其制備方法有效
| 申請號: | 202011059369.1 | 申請日: | 2020-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN112201700B | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發明(設計)人: | 楊潔;武祿;張昕宇;鄭霈霆;金浩 | 申請(專利權)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/042;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444 | 代理人: | 錢嫻靜 |
| 地址: | 314416 浙江省嘉興市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
本申請涉及光伏領域,提供一種太陽能電池及其制備方法,其中,方法包括以下步驟:對制絨后的N型半導體襯底的背面進行N型摻雜處理,形成第一N型摻雜層;對制絨后的N型半導體襯底的正面進行P型摻雜處理,形成P型發射極,P型發射極與N型半導體襯底形成PN結;在P型發射極的上表面形成電介質層;在電介質層的上表面形成第二N型摻雜層,其中,第二N型摻雜層的晶態包括非晶相、微晶相或多晶相中的一種或多種;在第二N型摻雜層的上表面形成正面鈍化層,在第一N型摻雜層的下表面形成背面鈍化層;以及在正面鈍化層和/或背面鈍化層上形成電極。本申請的太陽能電池及其制備方法,增強電池的鈍化效果,提升電池轉換效率。
技術領域
本申請涉及光伏電池技術領域,具體地講,涉及一種太陽能電池及其制備方法。
背景技術
Topcon電池依靠“隧穿效應”實現背面鈍化,現有的Topcon電池背面結構從內向外依次為襯底,隧穿氧化層,摻雜多晶硅層,背面鈍化層。由于摻雜多晶硅層與背面鈍化層分別在兩個不同的設備中沉積形成,摻雜多晶硅層與背面鈍化層之間不可避免的會引入一些未飽和缺陷,容易造成載流子復合和電性能損失,鈍化效果不理想。因此,有必要研究提升背鈍化效果的方法,進一步提高電池轉換效率。
發明內容
鑒于此,本申請提出一種太陽能電池及其制備方法,減少摻雜多晶硅層和鈍化層(比如氮化硅層)之間的未飽和缺陷,能夠有效改善鈍化效果,提升電池轉換效率。
本申請提供一種太陽能電池制備方法,包括以下步驟:
對制絨后的N型半導體襯底的背面進行N型摻雜處理,形成第一N型摻雜層;
對制絨后的N型半導體襯底的正面進行P型摻雜處理,形成P型發射極,所述P型發射極與所述N型半導體襯底形成PN結;
在所述P型發射極的上表面形成電介質層;
在所述電介質層的上表面形成第二N型摻雜層,其中,所述第二N型摻雜層的晶態包括非晶相、微晶相或多晶相中的一種或多種;
在所述第二N型摻雜層的上表面形成正面鈍化層,在所述第一N型摻雜層的下表面形成背面鈍化層;以及
在所述正面鈍化層和/或所述背面鈍化層上形成電極。
在一種可行的實施方式中,所述電介質層的厚度為0.5nm~2nm;和/或,所述電介質層包括氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鎵、氮化硅、氧化鉿中的至少一種。
在一種可行的實施方式中,在所述電介質層的上表面沉積一層N型摻雜層,包括:
在所述電介質層的上表面沉積形成多晶硅層,并進行摻雜處理以形成所述N型摻雜多晶硅層。
在一種可行的實施方式中,在所述電介質層的表面沉積一層N型摻雜層,包括:
在所述電介質層的表面沉積形成非晶硅層,并進行摻雜處理以形成所述N型摻雜非晶硅層;
對所述N型摻雜非晶硅層進行退火處理,其中,退火后的N型摻雜非晶硅層轉變N型摻雜的混合相晶體硅,所述混合相晶體硅包括非晶相晶體硅、微晶相晶體硅或多晶相晶體硅中的至少兩種。
在一種可行的實施方式中,第一N型摻雜層的厚度為1nm~10nm;
第一N型摻雜層的摻雜元素為磷或砷,第一N型摻雜層的摻雜方阻為20Ω/sqr~300Ω/sqr。
在一種可行的實施方式中,所述P型發射極的摻雜元素為硼或鎵,所述P型發射極的摻雜方阻為80Ω/sqr~400Ω/sqr。
在一種可行的實施方式中,所述摻雜處理所采用的方式包括高溫擴散工藝、漿料摻雜工藝或離子注入工藝中的任意一種。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江晶科能源有限公司;晶科能源股份有限公司,未經浙江晶科能源有限公司;晶科能源股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011059369.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





