[發明專利]成膜裝置、成膜方法以及電子器件的制造方法

有效

• 申請號: 202011059003.4
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN112695276B
• 公開（公告）日: 2023-03-24
• 發明（設計）人: 北原道隆;金栽賢;永田透
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/04;C23C14/56;H10K71/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 鄧宗慶

本發明涉及成膜裝置、成膜方法以及電子器件的制造方法。成膜裝置具備：支承被成膜物的被成膜物支承部和旋轉接頭，所述旋轉接頭具有與被成膜物支承部連接并旋轉的旋轉部和設置在旋轉部的周圍并固定于成膜室的固定部，固定部具有供給液體的供給口和排出液體的排出口，旋轉部具有將從供給口供給的液體向被成膜物支承部供給的供給流路和將從被成膜物支承部排出的液體向排出口排出的排出流路，構成供液體按照供給口、供給流路、被成膜物支承部、排出流路、排出口的順序流動的液體流路，成膜裝置還具備：將從排出口排出的液體向供給口供給的循環路徑、配置于循環路徑的泵和閥、以及根據成膜裝置的運轉狀態對泵和閥進行控制的控制部。

技術領域

本發明涉及成膜裝置、成膜方法以及電子器件的制造方法。

背景技術

近年來，作為顯示器的一種，具備使用了有機材料的電場發光的有機EL元件的有機EL裝置備受關注。在制造該有機EL裝置時，在具有成膜室的成膜裝置中，有在基板上附著金屬電極材料或有機材料等成膜材料而進行成膜的工序。

在成膜裝置的成膜室內，通過對收容在容器內的蒸鍍材料進行加熱或對靶進行濺射，使成膜材料飛濺而附著于基板，在基板上形成膜。此時，出于形成均勻的膜等目的，有時在成膜室內一邊使基板旋轉一邊進行成膜。另外，在成膜室內成為高溫的情況下，有時在成膜室內在支承基板的部件的內部設置供冷卻液進入的空間，通過使冷卻液在該空間與成膜室的外部之間循環，從而對基板進行冷卻來防止成膜材料的品質劣化。

在專利文獻1(日本特開2012-057755號公報)中公開了如下的旋轉接頭以及濺射裝置：為了高效地對靶進行冷卻，通過改變冷卻水的流路，從而以大流量的冷卻水對使用中的靶進行集中冷卻，對于未使用的靶，以比較少量的冷卻水進行冷卻。

在專利文獻2(日本特開2006-322016號公報)中公開了如下的真空蒸鍍裝置：能夠在一定程度的高溫下控制蒸鍍時的基板溫度，在蒸鍍結束后迅速對基板進行冷卻并取出。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2012-057755號公報

專利文獻2：日本特開2006-322016號公報

發明要解決的課題

但是，在上述那樣的裝置中，在進行成膜期間基本上需要始終使冷卻液循環。其結果是，存在在旋轉接頭中的各部件的連接部分(尤其是從旋轉力作用的旋轉體與框體之間)漏出冷卻液的問題。

即便在旋轉體與框體之間配置有磁性密封件、O型環等密封部件，也會在一定程度上產生該冷卻液的泄漏。在使用氟系非活性液體等比較高價的材料作為冷卻液的情況下，由漏出引起的損失對成本方面造成的影響較大。

發明內容

本發明是鑒于上述課題而作出的，其目的在于提供一種用于抑制在成膜裝置的旋轉接頭中使用的液體漏出的技術。

用于解決課題的方案

本發明采用以下結構。即，

一種成膜裝置，在成膜室中在被成膜物上進行成膜，其特征在于，

所述成膜裝置具備：

被成膜物支承部，所述被成膜物支承部支承所述被成膜物；以及

旋轉接頭，所述旋轉接頭具有旋轉部和固定部，所述旋轉部與所述被成膜物支承部連接并旋轉，所述固定部設置在所述旋轉部的周圍并固定于所述成膜室，

所述固定部具有供給液體的供給口和排出液體的排出口，

所述旋轉部具有供給流路和排出流路，所述供給流路將從所述供給口供給的液體向所述被成膜物支承部供給，所述排出流路將從所述被成膜物支承部排出的液體向所述排出口排出，