[發(fā)明專利]成膜裝置、成膜方法以及電子器件的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011059003.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112695276B | 公開(公告)日: | 2023-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 北原道隆;金栽賢;永田透 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佳能特機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/04;C23C14/56;H10K71/00 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 鄧宗慶 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 方法 以及 電子器件 制造 | ||
1.一種成膜裝置,在成膜室中在被成膜物上進(jìn)行成膜,其特征在于,
所述成膜裝置具備:
被成膜物支承部,所述被成膜物支承部支承所述被成膜物;以及
旋轉(zhuǎn)接頭,所述旋轉(zhuǎn)接頭具有旋轉(zhuǎn)部和固定部,所述旋轉(zhuǎn)部與所述被成膜物支承部連接并旋轉(zhuǎn),所述固定部設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)部的周圍并固定于所述成膜室,
所述固定部具有供給液體的供給口和排出液體的排出口,
所述旋轉(zhuǎn)部具有供給流路和排出流路,所述供給流路將從所述供給口供給的液體向所述被成膜物支承部供給,所述排出流路將從所述被成膜物支承部排出的液體向所述排出口排出,
在所述成膜裝置中,構(gòu)成供液體按照所述供給口、所述供給流路、所述被成膜物支承部、所述排出流路、所述排出口的順序流動(dòng)的液體流路,
所述成膜裝置還具備:
循環(huán)路徑,所述循環(huán)路徑將從所述排出口排出的液體向所述供給口供給;
泵,所述泵配置于所述循環(huán)路徑;
閥,所述閥配置于所述循環(huán)路徑;
排泄口,所述排泄口為了排出從所述液體流路漏出的排泄液而設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)接頭;以及
控制部,所述控制部為了抑制所述排泄液的漏出而根據(jù)所述成膜裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài),對(duì)所述泵和所述閥進(jìn)行控制。
2.如權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述排泄液包含所述液體和雜質(zhì)成分,
從所述排泄口排出的所述排泄液被收容于排泄液容器。
3.如權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述控制部對(duì)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方進(jìn)行控制,使得在從所述成膜室內(nèi)送出了所述被成膜物時(shí)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方相比在向所述成膜室內(nèi)送入了所述被成膜物時(shí)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方減少。
4.如權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述控制部對(duì)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方進(jìn)行控制,使得在未進(jìn)行所述被成膜物的成膜時(shí)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方相比在進(jìn)行所述被成膜物的成膜時(shí)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方減少。
5.如權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述成膜裝置具備設(shè)置在所述成膜室內(nèi)并對(duì)蒸發(fā)源進(jìn)行加熱的加熱部,
所述控制部對(duì)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方進(jìn)行控制,使得在未利用所述加熱部進(jìn)行加熱時(shí)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方相比在利用所述加熱部進(jìn)行加熱時(shí)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方減少。
6.如權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述控制部對(duì)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方進(jìn)行控制,使得在所述旋轉(zhuǎn)部未旋轉(zhuǎn)時(shí)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方相比在所述旋轉(zhuǎn)部的旋轉(zhuǎn)開始時(shí)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方減少。
7.如權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述控制部使用溫度傳感器來測定所述被成膜物的溫度,根據(jù)該溫度對(duì)所述液體的流量以及壓力中的至少一方進(jìn)行控制。
8.如權(quán)利要求1~7中任一項(xiàng)所述的成膜裝置,其特征在于,
所述控制部根據(jù)所述成膜裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)對(duì)所述閥的開度進(jìn)行控制,從而對(duì)向所述供給口供給的所述液體的流量以及壓力中的至少一方進(jìn)行控制。
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
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