[發(fā)明專利]一種酰胺化合物及其制備方法和用途有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011055973.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112574098B | 公開(公告)日: | 2022-06-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉進(jìn);柯博文;張文勝;楊俊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 四川大學(xué)華西醫(yī)院 |
| 主分類號(hào): | C07D211/60 | 分類號(hào): | C07D211/60;C07D265/30;C07C237/12;A61K31/445;A61K31/5375;A61K31/5377;A61K31/221;A61P29/00;A61P23/02 |
| 代理公司: | 成都高遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51222 | 代理人: | 李高峽;張娟 |
| 地址: | 610000 四*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 化合物 及其 制備 方法 用途 | ||
1.式(Ⅰ)所示化合物、或其鹽、或其光學(xué)異構(gòu)體:
其中,A環(huán)、B環(huán)各自獨(dú)立地選自被0~3個(gè)相同或不同的取代基取代的苯環(huán),所述A環(huán)、B環(huán)上的取代基各自獨(dú)立地選自鹵素、C1~2烷基、硝基、氰基;
R1、R2各自獨(dú)立地選自H、取代或未取代的C1~4烷基,所述C1~4烷基上的取代基選自羥基、C1~2烷氧基、C3環(huán)烷基;或,R1和R2連接形成6元飽和雜環(huán);
L1、L2各自獨(dú)立地選自被0~2個(gè)相同或不同的取代基取代的C1~5亞烷基,所述C1~5亞烷基上的取代基為鹵素;
與L3連接的虛線選自無(wú)或化學(xué)鍵;當(dāng)與L3連接的虛線為無(wú)時(shí),L3選自C1~4烷基;當(dāng)與L3連接的虛線為化學(xué)鍵時(shí),L3選自
Y為
X為藥學(xué)上可接受的陰離子。
2.如權(quán)利要求1所述的化合物、或其鹽、或其光學(xué)異構(gòu)體,其特征在于:所述化合物的結(jié)構(gòu)如式(IV)所示:
其中,R3~R8各自獨(dú)立地選自H、鹵素、C1~2烷基、硝基、氰基;R1、R2各自獨(dú)立地選自H、取代或未取代的C1~4烷基,所述C1~4烷基上的取代基選自羥基、C1~2烷氧基、C3環(huán)烷基;或,R1和R2連接形成6元飽和雜環(huán);
L1、L2各自獨(dú)立地選自被0~2個(gè)相同或不同的取代基取代的C1~5亞烷基,所述C1~5亞烷基上的取代基為鹵素;
Y為
M為O或CH2;
X為藥學(xué)上可接受的陰離子。
3.如權(quán)利要求2所述的化合物、或其鹽、或其光學(xué)異構(gòu)體,其特征在于:R3、R5、R7、R8各自獨(dú)立地選自鹵素、C1~2烷基、硝基、氰基。
4.如權(quán)利要求2所述的化合物、或其鹽、或其光學(xué)異構(gòu)體,其特征在于:所述鹵素為F或Cl。
5.如權(quán)利要求2所述的化合物、或其鹽、或其光學(xué)異構(gòu)體,其特征在于:所述化合物的結(jié)構(gòu)如式(V)所示:
其中,L1選自C1~4亞烷基,L2選自C2~5亞烷基;
Y為
X為藥學(xué)上可接受的陰離子。
6.如權(quán)利要求1所述的化合物、或其鹽、或其光學(xué)異構(gòu)體,其特征在于:所述化合物或其鹽為以下結(jié)構(gòu)之一:
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