[發(fā)明專利]成膜裝置、成膜方法及電子器件的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011054211.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-30 | 
| 公開(公告)號(hào): | CN112626476B | 公開(公告)日: | 2023-04-28 | 
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 永田透 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佳能特機(jī)株式會(huì)社 | 
| 主分類號(hào): | C23C14/50 | 分類號(hào): | C23C14/50;C23C14/24;C23C14/35;C23C14/54 | 
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 鄧宗慶 | 
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 方法 電子器件 制造 | ||
1.一種成膜裝置,其在成膜室中對(duì)被成膜物進(jìn)行成膜,所述成膜裝置具備:
被成膜物支承部,所述被成膜物支承部支承被成膜物;以及
旋轉(zhuǎn)接頭,所述旋轉(zhuǎn)接頭具有與所述被成膜物支承部連接并旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)部、和設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)部的周圍并固定于所述成膜室的固定部,
所述固定部具有被供給液體的供給口和排出液體的排出口,
所述旋轉(zhuǎn)部具有將從所述供給口供給的液體向所述被成膜物支承部供給的供給流路、和將從所述被成膜物支承部排出的液體向所述排出口排出的排出流路,
按所述供給口、所述供給流路、所述被成膜物支承部、所述排出流路及所述排出口的順序構(gòu)成供液體流動(dòng)的液體流路,其特征在于,所述成膜裝置具有:
循環(huán)路徑,所述循環(huán)路徑將從所述排出口排出的液體供給到所述供給口;
排放口,所述排放口設(shè)置于所述固定部;
除去機(jī)構(gòu),所述除去機(jī)構(gòu)從排放液除去雜質(zhì),該排放液是從所述排放口排出的排放液;以及
路徑,所述路徑將從所述除去機(jī)構(gòu)送出的所述排放液供給到所述供給口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述成膜裝置具有將從所述排出口排出的所述液體送出到所述供給口的循環(huán)路徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置,其特征在于,
從所述排出口排出的所述液體經(jīng)由三通閥,與被供給從所述排放口排出的所述排放液的所述路徑合流。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
從所述除去機(jī)構(gòu)送出的所述排放液與所述循環(huán)路徑合流。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成膜裝置,其特征在于,
在除去所述雜質(zhì)后的所述排放液與從所述排出口排出的所述液體合流的部位具備限制反方向的流動(dòng)的止回閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述除去機(jī)構(gòu)配置于所述循環(huán)路徑,
從所述排出口排出的所述液體和從所述排放口排出的所述排放液在所述除去機(jī)構(gòu)中合流,除去所述雜質(zhì)并供給到所述供給口。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置,其特征在于,
所述除去機(jī)構(gòu)包含于調(diào)節(jié)所述液體的溫度的溫度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置,其特征在于,
所述除去機(jī)構(gòu)設(shè)置于與所述成膜室所在的位置不同的位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述除去機(jī)構(gòu)具有收容所述排放液的排放液容器,
在所述排放液容器中,基于所述液體與所述雜質(zhì)的比重差,從所述液體分離所述雜質(zhì)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的成膜裝置,其特征在于,
在所述排放液容器,設(shè)置有用于為了再利用而將分離所述雜質(zhì)后的所述液體送出到所述循環(huán)路徑的送出口。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的成膜裝置,其特征在于,
在所述排放液容器,設(shè)置有檢測收容的所述液體的液面的高度的水平傳感器,并且具有為了再利用而將從吸入口吸入的所述液體送出的泵,
所述除去機(jī)構(gòu)在所述液面的高度為比所述吸入口的高度高規(guī)定的距離的閾值高度以下的情況下,不進(jìn)行所述液體的送出。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述液體是用于調(diào)節(jié)所述被成膜物的溫度的液體,
所述雜質(zhì)是用于所述旋轉(zhuǎn)接頭的潤滑脂的成分。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成膜裝置,其特征在于,
作為所述潤滑脂的基油,使用相對(duì)于所述液體不溶性的材料。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成膜裝置,其特征在于,
所述液體和所述潤滑脂的比重不同。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
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C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
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