[發(fā)明專利]陣列基板和顯示面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011053601.0 | 申請日: | 2020-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN112164701B | 公開(公告)日: | 2022-09-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何水;楊銘;鄭珊珊 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京晟睿智杰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人: | 于淼 |
| 地址: | 361101 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 顯示 面板 | ||
本申請公開了一種陣列基板和顯示面板,涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,陣列基板包括襯底基板和多個薄膜晶體管;薄膜晶體管包括有源層、柵極、源極和漏極,有源層包括溝道區(qū)以及分別與溝道區(qū)溝道長度方向上的兩端連接的第一區(qū)和第二區(qū);沿垂直于襯底基板的方向,源極和漏極與有源層之間包括至少一層絕緣層,源極和漏極分別通過貫穿絕緣層的過孔與第一區(qū)和第二區(qū)連接;其中,過孔在與其相鄰的溝道區(qū)的寬度方向上的尺寸大于溝道區(qū)的溝道寬度尺寸。由于本申請將過孔在溝道寬度方向上進(jìn)行拉伸,避免了過孔曝光后因孔徑擴(kuò)大而出現(xiàn)弧形邊界,從而解決溝道區(qū)溝道長度波動的問題;另外,過孔與有源層的接觸面積增大后,接觸電阻減小,也有利于解決電流發(fā)熱的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,更具體地,涉及一種陣列基板和顯示面板。
背景技術(shù)
在顯示技術(shù)中,TFT(Thin Film Transistor,薄膜場效應(yīng)晶體管)是顯示面板的核心部件,通常制作于陣列基板上,包括:柵極、源極、漏極和有源層;其中,源、漏極分別通過過孔與有源層連接。當(dāng)對柵極施加電壓后,柵極和有源層之間形成電場,電場的作用使得有源層中的載流子開始移動產(chǎn)生電流,當(dāng)溝道區(qū)達(dá)到飽和電流時,薄膜晶體管開啟,實現(xiàn)源極與漏極之間的導(dǎo)通。
由于薄膜晶體管的性能與顯示效果密切相關(guān),因此如何改善TFT性能成為了現(xiàn)階段亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種陣列基板和顯示面板,能夠減少TFT中溝道區(qū)溝道長度的波動,從而在保證TFT均一性的同時改善電流發(fā)熱現(xiàn)象。
第一方面,本申請?zhí)峁┮环N陣列基板,包括襯底基板和位于所述襯底基板一側(cè)的多個薄膜晶體管;所述薄膜晶體管包括有源層、柵極、源極和漏極,所述有源層包括溝道區(qū)以及分別與所述溝道區(qū)溝道長度方向上的兩端連接的第一區(qū)和第二區(qū);
沿垂直于所述襯底基板的方向,所述源極和漏極與所述有源層之間包括至少一層絕緣層,所述源極和所述漏極分別通過貫穿所述絕緣層的過孔與所述第一區(qū)和所述第二區(qū)連接;其中,所述過孔在與其相鄰的所述溝道區(qū)的寬度方向上的尺寸大于所述溝道區(qū)的溝道寬度尺寸。
第二方面,本申請還提供一種顯示面板,包括上述第一方面所提供的陣列基板。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本申請?zhí)峁┑年嚵谢搴惋@示面板,至少實現(xiàn)了如下的有益效果:
本申請所提供的陣列基板及顯示面板中,薄膜晶體管包括有源層、柵極、源極和漏極,源、漏極分別通過過孔與有源層電連接。由于過孔在與其相鄰的溝道區(qū)的寬度方向上的尺寸大于溝道區(qū)的溝道寬度尺寸,也就是說,本申請將過孔沿溝道區(qū)的溝道寬度方向進(jìn)行拉伸,此種設(shè)計方式能夠避免過控曝光后孔徑擴(kuò)大形成圓形過孔,從而消除圓形邊界導(dǎo)致的溝道區(qū)溝道長度波動,有效提高了各個TFT的均一性。此外,過孔沿溝道寬度方向拉伸后,其與有源層的接觸面積增大、接觸電阻減小,也有利于解決電流發(fā)熱的問題,保證了TFT的器件特性。
當(dāng)然,實施本發(fā)明的任一產(chǎn)品必不特定需要同時達(dá)到以上所述的所有技術(shù)效果。
通過以下參照附圖對本發(fā)明的示例性實施例的詳細(xì)描述,本發(fā)明的其它特征及其優(yōu)點將會變得清楚。
附圖說明
被結(jié)合在說明書中并構(gòu)成說明書的一部分的附圖示出了本發(fā)明的實施例,并且連同其說明一起用于解釋本發(fā)明的原理。
圖1所示為發(fā)明人研究過程中提供的薄膜晶體管的一種俯視圖;
圖2所示為本申請實施例所提供的薄膜晶體管的一種膜層結(jié)構(gòu)圖;
圖3所示為圖2實施例所提供的薄膜晶體管的一種俯視圖;
圖4所示為圖2實施例所提供的薄膜晶體管的另一種俯視圖;
圖5所示為發(fā)明人研究過程中提供的薄膜晶體管的另一種俯視圖;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





