[發明專利]一種三光柵拼接系統

有效

• 申請號: 202011051435.0
• 申請日: 2020-09-29
• 公開（公告）號: CN112229513B
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發明（設計）人: 吉日嘎蘭圖;尹云飛;巴音賀希格;李文昊;張偉;王耕
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G01J3/02
• 分類號: G01J3/02;G01J3/28;G02B7/00;G01M11/02
• 代理公司: 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 曹衛良

一種三光柵拼接系統，三光柵拼接系統包括：干涉儀波前測量系統、光柵拼接機構，干涉儀波前測量系統包括激光干涉儀、二維角度調整機構，二維角度調整機構設置于激光干涉儀的斜下面，光柵拼接機構包括氣浮隔振平臺、支撐及水平粗調機構、平行支架、底板和光柵位置調整及定位機構，氣浮隔振平臺設置于激光干涉儀的正下方，支撐及水平粗調機構設置在氣浮隔振平臺上，并位于激光干涉儀的四周，支撐及水平粗調機構的四個定位支架位于同一水平面上，平行支架設置在支撐及水平粗調機構上，底板設置在平行支架上，光柵位置調整及定位機構設置在底板上。本申請的三光柵拼接系統拼接精度和拼接效率高。

技術領域

本發明涉及光學器件精密制造技術領域，特別是涉及一種三光柵拼接系統。

背景技術

光柵作為光譜儀器的核心器件，已廣泛應用于天文、國防及民用高科技領域的觀測及物質探測技術中，在相關儀器中起到關鍵性的作用。隨著國民經濟的發展，光譜儀器也向高尖端方向發展，尤其是天文用光譜儀器需要更大面積的光柵來提高其分辨本領，而單塊大面積光柵尺寸超過米級時存在諸多的制造瓶頸。因此，中等面積光柵拼接技術稱為光柵制造面積繼續擴大的一種有效手段。光柵拼接對光柵的多維調整精度以及調整后的復制制造提出了更多的苛刻要求。

現有拼接技術主要集中于針對兩個光柵的多維度調整拼接技術，且沒有考慮到拼接后的復制制造等工序及技術難點，尤其是三個以上的光柵的拼接中光柵的拼接精度調整、拼接狀態檢測、定位及復制固化等工序是拼接光柵能否成功應用的前提條件。

現有拼接技術集中于兩個小尺寸光柵的拼接，可獲得較高精度的拼接狀態，但是這個狀態是可變狀態，是由多個調整器件支撐狀態，無法移動到應用場合，且穩定性較差。

現有拼接技術主要集中在光柵面朝上，干涉儀直接獲取光柵拼接波前精度狀態，但是由于沒有統一的高精度基準面，需要多個調整機構通過多維調整才能滿足要求，增加系統復雜性，影響拼接后的精度得穩定性。

發明內容

基于此，本發明提供一種三光柵拼接精度在線監測及定位復制裝置，以解決現有技術存在的多光柵拼接難度大、拼接精度和拼接效率均低的技術問題。

為解決上述技術問題，本申請提供了一種三光柵拼接系統，所述三光柵拼接系統包括：干涉儀波前測量系統、光柵拼接機構，

所述干涉儀波前測量系統包括激光干涉儀、二維角度調整機構，所述二維角度調整機構設置于所述激光干涉儀的斜下面，

所述光柵拼接機構包括氣浮隔振平臺、支撐及水平粗調機構、平行支架、底板和光柵位置調整及定位機構，所述氣浮隔振平臺設置于所述激光干涉儀的正下方，

所述支撐及水平粗調機構設置在所述氣浮隔振平臺上，并位于所述激光干涉儀的四周，所述支撐及水平粗調機構的四個定位支架位于同一水平面上，所述平行支架設置在所述支撐及水平粗調機構上，所述底板設置在所述平行支架上，所述光柵位置調整及定位機構設置在所述底板上。

進一步的，所述光柵位置調整及定位機構包括定位框架、微調螺釘、第一支撐彈簧、石英基底高精度平面，

所述定位框架剛性固定于所述水平微調機構，所述三光柵設置在所述定位框架內，所述定位框架正前方設置有粗調旋鈕，實現對光柵的位置粗調，所述定位框架左右兩邊設置有微調螺釘，實現對光柵的位置微調，所述第一支撐彈簧的一端抵接于所述定位框架正后方的內側，另一端抵接于所述三光柵。

進一步的，所述相鄰光柵之間設置第二支撐彈簧。

進一步的，所述光柵拼接機構還包括水平微調機構，所述水平微調機構利用具有鋼球頂尖的水平微調螺釘三點支撐于所述底板，并通過所述水平微調螺釘調整所述水平微調機構。