[發明專利]一種三光柵拼接系統

有效

• 申請號: 202011051435.0
• 申請日: 2020-09-29
• 公開（公告）號: CN112229513B
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發明（設計）人: 吉日嘎蘭圖;尹云飛;巴音賀希格;李文昊;張偉;王耕
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G01J3/02
• 分類號: G01J3/02;G01J3/28;G02B7/00;G01M11/02
• 代理公司: 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 曹衛良

1.一種三光柵拼接系統，其特征在于，所述三光柵拼接系統包括：干涉儀波前測量系統、光柵拼接機構，

所述干涉儀波前測量系統包括激光干涉儀、二維角度調整機構，所述二維角度調整結構設置于所述激光干涉儀的斜下面，

所述光柵拼接機構包括氣浮隔振平臺、支撐及水平粗調機構、平行支架、底板和光柵位置調整及定位機構，

所述氣浮隔振平臺設置于所述激光干涉儀的正下方，所述支撐及水平粗調機構設置在所述氣浮隔振平臺上，并位于所述激光干涉儀的四周，所述支撐及水平粗調機構的四個定位支架位于同一水平面上，所述平行支架設置在所述支撐及水平粗調機構上，所述底板設置在所述平行支架上，所述光柵位置調整及定位機構設置在所述底板上；

所述光柵位置調整及定位機構包括定位框架、微調螺釘、第一支撐彈簧、石英基底高精度平面，

所述光柵拼接機構還包括水平微調機構，

所述定位框架剛性固定于所述水平微調機構，所述三光柵設置在所述定位框架內，所述定位框架正前方設置有粗調旋鈕，實現對光柵的位置粗調，所述定位框架左右兩邊設置有微調螺釘，實現對光柵的位置微調，所述第一支撐彈簧的一端抵接于所述定位框架正后方的內側，另一端抵接于所述三光柵。

2.根據權利要求1所述的一種三光柵拼接系統，其特征在于，相鄰光柵之間設置第二支撐彈簧。

3.根據權利要求1所述的一種三光柵拼接系統，其特征在于，所述水平微調機構利用具有鋼球頂尖的水平微調螺釘三點支撐于所述底板，并通過所述水平微調螺釘調整所述水平微調機構。

4.根據權利要求3所述的一種三光柵拼接系統，其特征在于，所述激光干涉儀向所述石英基底高精度平面發射衍射光，在所述激光干涉儀處理系統上形成參考光斑，經所述石英基底高精度平面和所述水平微調機構調節平行，所述參考光斑位于所述石英基底高精度平面中心，所述石英基底高精度平面上均勻涂抹液體膠層，所述三光柵表面朝下安放于所述液體膠層上。

5.根據權利要求4所述的一種三光柵拼接系統，其特征在于，還包括紫外固化系統，所述紫外固化系統用于實現液體膠的常溫狀態下快速固化。

6.根據權利要求1所述的一種三光柵拼接系統，其特征在于，所述激光干涉儀具有150mm的有效監測口徑，具備波前監測及分析軟件系統。

7.根據權利要求1所述的一種三光柵拼接系統，其特征在于，所述光柵拼接機構設置于所述激光干涉儀的出射光方向上。

8.根據權利要求1所述的一種三光柵拼接系統，其特征在于，所述二維角度調整機構包括粗調整和細調整，所述粗調整用于改變激光干涉儀的準直透鏡出射光方向，所述細調整用于精確的定位衍射光斑的偏移度。

9.根據權利要求1所述的一種三光柵拼接系統，其特征在于，所述三光柵由統一母版來源的單一奇/偶代版同一批次蒸鍍的高質量光柵，所述三光柵的線條與所述三光柵的排列方向垂直。