[發(fā)明專利]同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011047267.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114326313A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪恒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海盈盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孫佳胤;高翠花 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 同時(shí) 監(jiān)測(cè) 多種 照明 條件 方法 | ||
1.一種同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,采用同一掩膜圖形作為掩膜,在不同的照明條件下,對(duì)同一晶圓的不同區(qū)域進(jìn)行曝光,獲得多個(gè)圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,所述照明條件為在所述晶圓上形成的光斑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,不同的所述照明條件設(shè)置為,所述光斑的形狀和/或大小不同。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,以預(yù)設(shè)照明條件為基準(zhǔn),微調(diào)照明條件的參數(shù),獲得多個(gè)照明條件,以使形成的所述光斑的形狀被微調(diào)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,所述晶圓為裸片晶圓。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,所述晶圓為具有預(yù)設(shè)圖案的晶圓,所述晶圓的不同區(qū)域包括晶圓具有預(yù)設(shè)圖案的區(qū)域和/或不具有預(yù)設(shè)圖案的區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,在所述晶圓上,被曝光的區(qū)域相鄰設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,在所述晶圓上,被曝光的區(qū)域間隔設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,在所述晶圓上,被曝光的區(qū)域無(wú)序設(shè)置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同時(shí)監(jiān)測(cè)多種照明條件的方法,其特征在于,所述方法還包括:預(yù)先設(shè)置形成所述照明條件的照明參數(shù),在曝光步驟中自動(dòng)按照預(yù)設(shè)的照明參數(shù)執(zhí)行。
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
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