[發明專利]硅片堿拋后清洗用添加劑及其應用

有效

• 申請號: 202011047197.6
• 申請日: 2020-09-29
• 公開（公告）號: CN112143573B
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發明（設計）人: 于胤;陳盼盼;楊勇;章圓圓
• 申請（專利權）人: 常州時創能源股份有限公司
• 主分類號: C11D1/72
• 分類號: C11D1/72;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/60;H01L31/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.硅片堿拋后清洗用添加劑，其特征在于，由1～3質量份檸檬酸、0.3～0.5質量份月桂醇聚氧乙烯醚、1～2質量份乙二醇、1～2質量份硫酸鈉、2～3質量份氯化鈉和85～97質量份水組成。

2.根據權利要求1所述的硅片堿拋后清洗用添加劑，其特征在于，由1～2質量份檸檬酸、0.3～0.4質量份月桂醇聚氧乙烯醚、1～2質量份乙二醇、1～1.5質量份硫酸鈉、2.5～3質量份氯化鈉和90～95質量份水組成。

3.硅片堿拋后清洗用清洗液，其特征在于，其含有酸溶液和權利要求1或2所述的添加劑，添加劑與酸溶液的質量比為0.5～2:100；所述酸溶液為氫氟酸的水溶液。

4.根據權利要求3所述的硅片堿拋后清洗用清洗液，其特征在于，所述酸溶液中含有5～15wt%的氫氟酸。

5.根據權利要求3所述的硅片堿拋后清洗用清洗液，其特征在于，所述酸溶液中還配入了鹽酸。

6.根據權利要求5所述的硅片堿拋后清洗用清洗液，其特征在于，所述酸溶液中含有5～15wt%的氫氟酸和5～15wt%的鹽酸。

7.硅片堿拋后清洗方法，其特征在于，利用權利要求3至6中任一項所述的清洗液對堿拋后的硅片進行清洗。

8.根據權利要求7所述的硅片堿拋后清洗方法，其特征在于，其具體步驟包括：

1）配制添加劑：將1～3質量份檸檬酸、0.3～0.5質量份月桂醇聚氧乙烯醚、1～2質量份乙二醇、1～2質量份硫酸鈉、2～3質量份氯化鈉加入到85～97質量份水中，混合均勻配成添加劑；

2）配制清洗液：將步驟1）制成的添加劑加到酸溶液中，混合均勻配成清洗液；添加劑與酸溶液的質量比為0.5～2:100；酸溶液為氫氟酸的水溶液；酸溶液中含有5～15wt%的氫氟酸；

3）將硅片浸入步驟2）制得的清洗液中，清洗2～3min。

9.根據權利要求8所述的硅片堿拋后清洗方法，其特征在于，步驟1）中，將1～2質量份檸檬酸、0.3～0.4質量份月桂醇聚氧乙烯醚、1～2質量份乙二醇、1～1.5質量份硫酸鈉、2.5～3質量份氯化鈉加入到85～97質量份水中，混合均勻配成添加劑。

10.根據權利要求8所述的硅片堿拋后清洗方法，其特征在于，步驟2）中，所述酸溶液中還配入了鹽酸；酸溶液中含有5～15wt%的氫氟酸和5～15wt%的鹽酸。